ಡೌನ್ಹೋಲ್ ಕೆಮಿಕಲ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ಗಳು-ಅವು ಏಕೆ ವಿಫಲಗೊಳ್ಳುತ್ತವೆ?ಹೊಸ ಪರೀಕ್ಷಾ ವಿಧಾನಗಳ ಅನುಭವಗಳು, ಸವಾಲುಗಳು ಮತ್ತು ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್
ಹಕ್ಕುಸ್ವಾಮ್ಯ 2012, ಸೊಸೈಟಿ ಆಫ್ ಪೆಟ್ರೋಲಿಯಂ ಇಂಜಿನಿಯರ್ಸ್
ಅಮೂರ್ತ
ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಅನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸುವ ಹಲವಾರು ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಸ್ಟಾಟೊಯಿಲ್ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತಿದೆ.(Ba/Sr) SO4orCaCO ನಿಂದ ಮೇಲಿನ ಕೊಳವೆಗಳು ಮತ್ತು ಸುರಕ್ಷತಾ ಕವಾಟವನ್ನು ರಕ್ಷಿಸುವುದು ಉದ್ದೇಶವಾಗಿದೆ;ಸ್ಕೇಲ್, ಸ್ಕೇಲ್ ಸ್ಕ್ವೀಜಿಂಗ್ ಅನ್ನು ನಿಯಮಿತವಾಗಿ ನಿರ್ವಹಿಸಲು ಕಷ್ಟಕರವಾದ ಮತ್ತು ದುಬಾರಿಯಾಗಿರುವ ಸಂದರ್ಭಗಳಲ್ಲಿ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಸಬ್‌ಸೀಸ್ ಫೀಲ್ಡ್‌ಗಳ ಟೈ-ಇನ್.
ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಡೌನ್‌ಹೋಲ್‌ನ ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ಯಾಕರ್‌ನ ಮೇಲಿರುವ ಸ್ಕೇಲಿಂಗ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಬಾವಿಗಳಲ್ಲಿನ ಮೇಲ್ಭಾಗದ ಕೊಳವೆಗಳು ಮತ್ತು ಸುರಕ್ಷತಾ ಕವಾಟವನ್ನು ರಕ್ಷಿಸಲು ತಾಂತ್ರಿಕವಾಗಿ ಸೂಕ್ತವಾದ ಪರಿಹಾರವಾಗಿದೆ;ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಬಾವಿಗಳಲ್ಲಿ ಸಮೀಪದ ಬಾವಿ ಪ್ರದೇಶದಲ್ಲಿ ಸ್ಕೇಲಿಂಗ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ ನಿಯಮಿತವಾಗಿ ಹಿಂಡುವ ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲ.
ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ಗಳನ್ನು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸುವುದು, ನಿರ್ವಹಿಸುವುದು ಮತ್ತು ನಿರ್ವಹಿಸುವುದು ವಸ್ತುಗಳ ಆಯ್ಕೆ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಅರ್ಹತೆ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ವಿಚಾರಣೆಯ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಮನವನ್ನು ಬಯಸುತ್ತದೆ.ಒತ್ತಡ, ತಾಪಮಾನ, ಹರಿವು-ನಿಯಮಗಳು ಮತ್ತು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ರೇಖಾಗಣಿತವು ಸುರಕ್ಷಿತ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಗೆ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಪರಿಚಯಿಸಬಹುದು.ಉತ್ಪಾದನಾ ಸೌಲಭ್ಯದಿಂದ ಸಬ್‌ಸೀ ಟೆಂಪ್ಲೇಟ್‌ವರೆಗೆ ಹಲವಾರು ಕಿಲೋಮೀಟರ್‌ಗಳಷ್ಟು ಉದ್ದದ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಬಾವಿಗಳಲ್ಲಿನ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟಗಳಲ್ಲಿ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಗುರುತಿಸಲಾಗಿದೆ.
ಮಳೆ ಮತ್ತು ತುಕ್ಕು ಸಮಸ್ಯೆಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಸಿಸ್ಟಮ್‌ಗಳ ಸಂಕೀರ್ಣತೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುವ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಅನುಭವಗಳನ್ನು ಚರ್ಚಿಸಲಾಗಿದೆ.ಪ್ರಯೋಗಾಲಯ ಅಧ್ಯಯನಗಳು ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಅರ್ಹತೆಗಾಗಿ ಹೊಸ ವಿಧಾನಗಳ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಪ್ರತಿನಿಧಿಸಲಾಗಿದೆ.ಬಹುಶಿಸ್ತಿನ ಕ್ರಮಗಳ ಅಗತ್ಯತೆಗಳನ್ನು ತಿಳಿಸಲಾಗಿದೆ.
ಪರಿಚಯ
ಸ್ಟ್ಯಾಟೊಯಿಲ್ ಹಲವಾರು ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತಿದೆ, ಅಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಅನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗಿದೆ.ಇದು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ (Ba/Sr) SO4orCaCO ನಿಂದ ಮೇಲ್ಭಾಗದ ಕೊಳವೆಗಳು ಮತ್ತು ಡೌನ್ಹೋಲ್ ಸುರಕ್ಷತಾ ಕವಾಟವನ್ನು (DHSV) ರಕ್ಷಿಸುವ ಉದ್ದೇಶವು ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ (SI) ಯ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಅನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ;ಪ್ರಮಾಣದ.ಕೆಲವು ಸಂದರ್ಭಗಳಲ್ಲಿ ಎಮಲ್ಷನ್ ಬ್ರೇಕರ್ ಅನ್ನು ಡೌನ್ಹೋಲ್ ಮೂಲಕ ಚುಚ್ಚಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಸಾಪೇಕ್ಷ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಸಾಧ್ಯವಾದಷ್ಟು ಆಳವಾಗಿ ಬೇರ್ಪಡಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸುತ್ತದೆ.
ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಡೌನ್‌ಹೋಲ್‌ನ ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ಯಾಕರ್‌ನ ಮೇಲಿರುವ ಸ್ಕೇಲಿಂಗ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಬಾವಿಗಳ ಮೇಲಿನ ಭಾಗವನ್ನು ರಕ್ಷಿಸಲು ತಾಂತ್ರಿಕವಾಗಿ ಸೂಕ್ತವಾದ ಪರಿಹಾರವಾಗಿದೆ.ನಿರಂತರ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದನ್ನು ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಬಾವಿಗಳಲ್ಲಿ ಶಿಫಾರಸು ಮಾಡಬಹುದು ಏಕೆಂದರೆ ಸಮೀಪದ ಬಾವಿಯಲ್ಲಿ ಕಡಿಮೆ ಸ್ಕೇಲಿಂಗ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ಕಾರಣ ಹಿಂಡುವ ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲ;ಅಥವಾ ಸ್ಕೇಲ್ ಸ್ಕ್ವೀಜಿಂಗ್ ಅನ್ನು ನಿಯಮಿತವಾಗಿ ನಿರ್ವಹಿಸಲು ಕಷ್ಟ ಮತ್ತು ದುಬಾರಿಯಾಗಿರುವ ಸಂದರ್ಭಗಳಲ್ಲಿ, ಉದಾ.
ಸ್ಟಾಟೊಯಿಲ್ ಟಾಪ್ಸೈಡ್ ಸಿಸ್ಟಮ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಸಬ್‌ಸೀ ಟೆಂಪ್ಲೇಟ್‌ಗಳಿಗೆ ನಿರಂತರ ರಾಸಾಯನಿಕ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿನ ಅನುಭವವನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸಿದೆ ಆದರೆ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಪಾಯಿಂಟ್ ಅನ್ನು ಬಾವಿಗೆ ಮತ್ತಷ್ಟು ಆಳವಾಗಿ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುವುದು ಹೊಸ ಸವಾಲು.ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ಗಳನ್ನು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸುವುದು, ನಿರ್ವಹಿಸುವುದು ಮತ್ತು ನಿರ್ವಹಿಸುವುದು ಹಲವಾರು ವಿಷಯಗಳ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಮನವನ್ನು ಬಯಸುತ್ತದೆ;ಉದಾಹರಣೆಗೆ ವಸ್ತು ಆಯ್ಕೆ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಅರ್ಹತೆ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ವಿಚಾರಣೆ.ಒತ್ತಡ, ತಾಪಮಾನ, ಹರಿವು-ನಿಯಮಗಳು ಮತ್ತು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ರೇಖಾಗಣಿತವು ಸುರಕ್ಷಿತ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಗೆ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಪರಿಚಯಿಸಬಹುದು.ಉದ್ದದ (ಹಲವಾರು ಕಿಲೋಮೀಟರ್‌ಗಳ) ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಉತ್ಪಾದನಾ ಸೌಲಭ್ಯದಿಂದ ಸಬ್‌ಸೀ ಟೆಂಪ್ಲೇಟ್‌ಗೆ ಮತ್ತು ಬಾವಿಗಳಲ್ಲಿನ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟಗಳಿಗೆ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಗುರುತಿಸಲಾಗಿದೆ;Fig.1.ಕೆಲವು ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳು ಯೋಜನೆಯ ಪ್ರಕಾರ ಕೆಲಸ ಮಾಡಿದ್ದರೆ, ಇತರವುಗಳು ವಿವಿಧ ಕಾರಣಗಳಿಗಾಗಿ ವಿಫಲವಾಗಿವೆ.ಡೌನ್ಹೋಲ್ ಕೆಮಿಕಲ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ (DHCI) ಗಾಗಿ ಹಲವಾರು ಹೊಸ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಬೆಳವಣಿಗೆಗಳನ್ನು ಯೋಜಿಸಲಾಗಿದೆ;ಆದಾಗ್ಯೂ;ಕೆಲವು ಸಂದರ್ಭಗಳಲ್ಲಿ ಉಪಕರಣಗಳು ಇನ್ನೂ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಅರ್ಹತೆ ಪಡೆದಿಲ್ಲ.
DHCI ಯ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಒಂದು ಸಂಕೀರ್ಣ ಕಾರ್ಯವಾಗಿದೆ.ಇದು ಪೂರ್ಣಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ ವಿನ್ಯಾಸಗಳು, ಬಾವಿ ರಸಾಯನಶಾಸ್ತ್ರ, ಮೇಲ್ಭಾಗದ ವ್ಯವಸ್ಥೆ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಭಾಗದ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ರಾಸಾಯನಿಕ ಡೋಸೇಜ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ.ರಾಸಾಯನಿಕವನ್ನು ಮೇಲ್ಭಾಗದಿಂದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ ಮೂಲಕ ಪೂರ್ಣಗೊಳಿಸುವ ಸಾಧನಕ್ಕೆ ಮತ್ತು ಬಾವಿಗೆ ಪಂಪ್ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ, ಈ ರೀತಿಯ ಯೋಜನೆಯ ಯೋಜನೆ ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯಗತಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಹಲವಾರು ವಿಭಾಗಗಳ ನಡುವಿನ ಸಹಕಾರವು ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗಿದೆ.ವಿವಿಧ ಪರಿಗಣನೆಗಳನ್ನು ಮೌಲ್ಯಮಾಪನ ಮಾಡಬೇಕು ಮತ್ತು ವಿನ್ಯಾಸದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಉತ್ತಮ ಸಂವಹನವು ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ.ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಇಂಜಿನಿಯರ್‌ಗಳು, ಸಬ್‌ಸೀ ಇಂಜಿನಿಯರ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಪೂರ್ಣಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಇಂಜಿನಿಯರ್‌ಗಳು ಚೆನ್ನಾಗಿ ರಸಾಯನಶಾಸ್ತ್ರ, ವಸ್ತುಗಳ ಆಯ್ಕೆ, ಹರಿವಿನ ಭರವಸೆ ಮತ್ತು ಉತ್ಪಾದನಾ ರಾಸಾಯನಿಕ ನಿರ್ವಹಣೆಯ ವಿಷಯಗಳೊಂದಿಗೆ ವ್ಯವಹರಿಸುತ್ತಾರೆ.ಸವಾಲುಗಳು ರಾಸಾಯನಿಕ ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಅಥವಾ ತಾಪಮಾನದ ಸ್ಥಿರತೆ, ತುಕ್ಕು ಮತ್ತು ಕೆಲವು ಸಂದರ್ಭಗಳಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ನಲ್ಲಿ ಸ್ಥಳೀಯ ಒತ್ತಡ ಮತ್ತು ಹರಿವಿನ ಪರಿಣಾಮಗಳಿಂದ ನಿರ್ವಾತ ಪರಿಣಾಮವಾಗಬಹುದು.ಇವುಗಳ ಜೊತೆಗೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡ, ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಅನಿಲ ದರ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಕೇಲಿಂಗ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದಂತಹ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು,ಬಾವಿಯಲ್ಲಿನ ದೂರದ ಹೊಕ್ಕುಳಿನ ಮತ್ತು ಆಳವಾದ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಪಾಯಿಂಟ್, ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿನ ರಾಸಾಯನಿಕ ಮತ್ತು ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟಕ್ಕೆ ವಿಭಿನ್ನ ತಾಂತ್ರಿಕ ಸವಾಲುಗಳು ಮತ್ತು ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ.
ಸ್ಟಾಟೊಯಿಲ್ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಗಳಲ್ಲಿ ಸ್ಥಾಪಿಸಲಾದ DHCI ಸಿಸ್ಟಮ್‌ಗಳ ಅವಲೋಕನವು ಅನುಭವವು ಯಾವಾಗಲೂ ಯಶಸ್ವಿಯಾಗುವುದಿಲ್ಲ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ ಕೋಷ್ಟಕ 1. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವಿನ್ಯಾಸ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಅರ್ಹತೆ, ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆ ಮತ್ತು ನಿರ್ವಹಣೆಯ ಸುಧಾರಣೆಗೆ ಯೋಜನೆ ಕೈಗೊಳ್ಳಲಾಗುತ್ತಿದೆ.ಸವಾಲುಗಳು ಕ್ಷೇತ್ರದಿಂದ ಕ್ಷೇತ್ರಕ್ಕೆ ಬದಲಾಗುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟವು ಸ್ವತಃ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತಿಲ್ಲ ಎಂಬುದು ಸಮಸ್ಯೆಯ ಅಗತ್ಯವಲ್ಲ.
ಕಳೆದ ವರ್ಷಗಳಲ್ಲಿ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಹಲವಾರು ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಅನುಭವಿಸಲಾಗಿದೆ.ಈ ಲೇಖನದಲ್ಲಿ ಈ ಅನುಭವಗಳಿಂದ ಕೆಲವು ಉದಾಹರಣೆಗಳನ್ನು ನೀಡಲಾಗಿದೆ.ಪತ್ರಿಕೆಯು DHCI ಲೈನ್‌ಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಸಮಸ್ಯೆಗಳನ್ನು ಪರಿಹರಿಸಲು ತೆಗೆದುಕೊಂಡ ಸವಾಲುಗಳು ಮತ್ತು ಕ್ರಮಗಳನ್ನು ಚರ್ಚಿಸುತ್ತದೆ.ಎರಡು ಪ್ರಕರಣ ಇತಿಹಾಸಗಳನ್ನು ನೀಡಲಾಗಿದೆ;ಒಂದು ತುಕ್ಕು ಮತ್ತು ಒಂದು ರಾಸಾಯನಿಕ ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಮೇಲೆ.ಮಳೆ ಮತ್ತು ತುಕ್ಕು ಸಮಸ್ಯೆಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಸಿಸ್ಟಮ್‌ಗಳ ಸಂಕೀರ್ಣತೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುವ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಅನುಭವಗಳನ್ನು ಚರ್ಚಿಸಲಾಗಿದೆ.
ಪ್ರಯೋಗಾಲಯ ಅಧ್ಯಯನಗಳು ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಅರ್ಹತೆಗಾಗಿ ಹೊಸ ವಿಧಾನಗಳ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಅನ್ನು ಸಹ ಪರಿಗಣಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ;ರಾಸಾಯನಿಕವನ್ನು ಹೇಗೆ ಪಂಪ್ ಮಾಡುವುದು, ಸ್ಕೇಲಿಂಗ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯ ಮತ್ತು ತಡೆಗಟ್ಟುವಿಕೆ, ಸಂಕೀರ್ಣ ಉಪಕರಣಗಳ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕವು ಮತ್ತೆ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾದಾಗ ರಾಸಾಯನಿಕವು ಮೇಲ್ಭಾಗದ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಹೇಗೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.ರಾಸಾಯನಿಕ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಾಗಿ ಮಾನದಂಡಗಳನ್ನು ಒಪ್ಪಿಕೊಳ್ಳುವುದು ಪರಿಸರ ಸಮಸ್ಯೆಗಳು, ದಕ್ಷತೆ, ಶೇಖರಣಾ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ಮೇಲ್ಭಾಗ, ಪಂಪ್ ದರ, ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿರುವ ಪಂಪ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಬಹುದೇ ಇತ್ಯಾದಿ. ತಾಂತ್ರಿಕ ಶಿಫಾರಸುಗಳು ದ್ರವ ಮತ್ತು ರಸಾಯನಶಾಸ್ತ್ರದ ಹೊಂದಾಣಿಕೆ, ಉಳಿಕೆ ಪತ್ತೆ, ವಸ್ತು ಹೊಂದಾಣಿಕೆ, ಸಬ್‌ಸೀಸ್ ಹೊಕ್ಕುಳಿನ ವಿನ್ಯಾಸ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಡೋಸೇಜ್ ಸಿಸ್ಟಮ್ ಅನ್ನು ಆಧರಿಸಿರಬೇಕು. ಮತ್ತು ಈ ಸಾಲುಗಳ ಸುತ್ತಮುತ್ತಲಿನ ವಸ್ತುಗಳು.ಅನಿಲ ಆಕ್ರಮಣದಿಂದ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ ಅನ್ನು ಪ್ಲಗ್ ಮಾಡುವುದನ್ನು ತಡೆಯಲು ರಾಸಾಯನಿಕವನ್ನು ಹೈಡ್ರೇಟ್ ಪ್ರತಿಬಂಧಿಸಬೇಕಾಗಬಹುದು ಮತ್ತು ಸಾರಿಗೆ ಮತ್ತು ಶೇಖರಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕವು ಫ್ರೀಜ್ ಮಾಡಬಾರದು.ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿರುವ ಆಂತರಿಕ ಮಾರ್ಗಸೂಚಿಗಳಲ್ಲಿ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಪ್ರತಿ ಹಂತದಲ್ಲಿ ಯಾವ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಬಹುದು ಎಂಬುದರ ಪರಿಶೀಲನಾಪಟ್ಟಿ ಇದೆ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯಂತಹ ಭೌತಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಮುಖ್ಯವಾಗಿವೆ.ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಹೊಕ್ಕುಳಿನ ಉಪಸಮುದ್ರದ ಹರಿವಿನ ರೇಖೆಯ 3-50 ಕಿಮೀ ದೂರವನ್ನು ಮತ್ತು ಬಾವಿಗೆ 1-3 ಕಿಮೀ ಕೆಳಗೆ ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ, ತಾಪಮಾನದ ಸ್ಥಿರತೆ ಕೂಡ ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ.ಡೌನ್‌ಸ್ಟ್ರೀಮ್ ಪರಿಣಾಮಗಳ ಮೌಲ್ಯಮಾಪನ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಸಂಸ್ಕರಣಾಗಾರಗಳಲ್ಲಿ ಸಹ ಪರಿಗಣಿಸಬೇಕಾಗಬಹುದು.
ಡೌನ್ಹೋಲ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳು
ವೆಚ್ಚದ ಲಾಭ
DHS Vor ಅನ್ನು ರಕ್ಷಿಸಲು ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಡೌನ್‌ಹೋಲ್‌ನ ನಿರಂತರ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದು ಉತ್ಪಾದನಾ ಟ್ಯೂಬ್‌ಗಳನ್ನು ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಚೆನ್ನಾಗಿ ಹಿಸುಕುವುದಕ್ಕೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ವೆಚ್ಚ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿದೆ.ಈ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಸ್ಕೇಲ್ ಸ್ಕ್ವೀಜ್ ಚಿಕಿತ್ಸೆಗಳಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ರಚನೆಯ ಹಾನಿಯ ಸಂಭಾವ್ಯತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಸ್ಕೇಲ್ ಸ್ಕ್ವೀಸ್‌ಗಳ ನಂತರ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಸಮಸ್ಯೆಗಳ ಸಂಭಾವ್ಯತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಟಾಪ್ಸೈಡ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಸಿಸ್ಟಮ್‌ನಿಂದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ದರವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುವ ಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ.ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಇತರ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳನ್ನು ನಿರಂತರವಾಗಿ ಡೌನ್‌ಹೋಲ್‌ಗೆ ಚುಚ್ಚಲು ಬಳಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಆ ಮೂಲಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಸ್ಥಾವರದ ಕೆಳಗೆ ಸಂಭವಿಸಬಹುದಾದ ಇತರ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಬಹುದು.
Oseberg S ಅಥವಾ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ಸ್ಕೇಲ್ ತಂತ್ರವನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸುವ ಸಮಗ್ರ ಅಧ್ಯಯನವನ್ನು ನಡೆಸಲಾಗಿದೆ.ಪ್ರಮುಖ ಪ್ರಮಾಣದ ಕಾಳಜಿ CaCO ಆಗಿತ್ತು;ಮೇಲಿನ ಕೊಳವೆಗಳಲ್ಲಿ ಸ್ಕೇಲಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಸಂಭವನೀಯ DHSV ವೈಫಲ್ಯ.Oseberg S ಅಥವಾ ಸ್ಕೇಲ್ ಮ್ಯಾನೇಜ್‌ಮೆಂಟ್ ಸ್ಟ್ರಾಟಜಿ ಪರಿಗಣನೆಗಳು ಮೂರು ವರ್ಷಗಳ ಅವಧಿಯಲ್ಲಿ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ಗಳು ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತಿದ್ದ ಬಾವಿಗಳಲ್ಲಿ DHCI ಅತ್ಯಂತ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ಪರಿಹಾರವಾಗಿದೆ ಎಂದು ತೀರ್ಮಾನಿಸಿದೆ.ಸ್ಕೇಲ್ ಸ್ಕ್ವೀಜ್‌ನ ಸ್ಪರ್ಧಾತ್ಮಕ ತಂತ್ರಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಮುಖ್ಯ ವೆಚ್ಚದ ಅಂಶವೆಂದರೆ ರಾಸಾಯನಿಕ/ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಣಾ ವೆಚ್ಚಕ್ಕಿಂತ ಮುಂದೂಡಲ್ಪಟ್ಟ ತೈಲ.ಗ್ಯಾಸ್ ಲಿಫ್ಟ್‌ನಲ್ಲಿ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಅನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಲು, ರಾಸಾಯನಿಕ ವೆಚ್ಚದ ಮೇಲಿನ ಪ್ರಮುಖ ಅಂಶವೆಂದರೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಗ್ಯಾಸ್ ಲಿಫ್ಟ್ ದರವು ಹೆಚ್ಚಿನ SI ಸಾಂದ್ರತೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ, ಏಕೆಂದರೆ ರಾಸಾಯನಿಕ ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಅನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಲು ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಗ್ಯಾಸ್ ಲಿಫ್ಟ್ ದರದೊಂದಿಗೆ ಸಮತೋಲನಗೊಳಿಸಬೇಕಾಗಿತ್ತು.Oseberg S ನಲ್ಲಿನ ಎರಡು ಬಾವಿಗಳಿಗೆ ಅಥವಾ ಉತ್ತಮವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುವ DHC I ಲೈನ್‌ಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದ್ದು, ಈ ಆಯ್ಕೆಯನ್ನು CaCO ವಿರುದ್ಧ DHS V ಗಳನ್ನು ರಕ್ಷಿಸಲು ಆಯ್ಕೆಮಾಡಲಾಗಿದೆ;ಸ್ಕೇಲಿಂಗ್.
ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆ ಮತ್ತು ಕವಾಟಗಳು
ನಿರಂತರ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿರುವ ಪೂರ್ಣಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಪರಿಹಾರಗಳು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಗಳ ಪ್ಲಗಿಂಗ್ ಅನ್ನು ತಡೆಗಟ್ಟಲು ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಎದುರಿಸುತ್ತವೆ.ವಿಶಿಷ್ಟವಾಗಿ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ಲೈನ್ ಅನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ, 1/4" ಅಥವಾ 3/8" ಹೊರಗಿನ ವ್ಯಾಸವನ್ನು (OD), ಮೇಲ್ಮೈ ಮ್ಯಾನಿಫೋಲ್ಡ್‌ಗೆ ಕೊಂಡಿಯಾಗಿರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಟ್ಯೂಬಿಂಗ್‌ನ ವಾರ್ಷಿಕ ಭಾಗದಲ್ಲಿ ಕೊಳವೆಯ ಹ್ಯಾಂಗರ್‌ಗೆ ಸಂಪರ್ಕ ಹೊಂದಿದೆ.ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯು ವಿಶೇಷ ಕೊಳವೆಗಳ ಕಾಲರ್ ಹಿಡಿಕಟ್ಟುಗಳಿಂದ ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳ ಹೊರಗಿನ ವ್ಯಾಸಕ್ಕೆ ಲಗತ್ತಿಸಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಕೊಳವೆಯ ಹೊರಭಾಗದಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಮ್ಯಾಂಡ್ರೆಲ್‌ನವರೆಗೆ ಚಲಿಸುತ್ತದೆ.ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿನ ರಾಸಾಯನಿಕಕ್ಕೆ ಸಾಕಷ್ಟು ಪ್ರಸರಣ ಸಮಯವನ್ನು ನೀಡುವ ಮತ್ತು ಸವಾಲುಗಳು ಕಂಡುಬರುವ ರಾಸಾಯನಿಕವನ್ನು ಇರಿಸುವ ಉದ್ದೇಶದಿಂದ ಮ್ಯಾಂಡ್ರೆಲ್ ಅನ್ನು ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕವಾಗಿ DHS V ಯ ಅಪ್-ಸ್ಟ್ರೀಮ್ ಅಥವಾ ಬಾವಿಯಲ್ಲಿ ಆಳವಾಗಿ ಇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.
ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟದಲ್ಲಿ, Fig.2, ಸುಮಾರು 1.5" ವ್ಯಾಸದ ಸಣ್ಣ ಕಾರ್ಟ್ರಿಡ್ಜ್ ಚೆಕ್ ಕವಾಟಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ, ಇದು ವೆಲ್ಬೋರ್ ದ್ರವಗಳು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯನ್ನು ಪ್ರವೇಶಿಸುವುದನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತದೆ.ಇದು ಕೇವಲ ಒಂದು ಸ್ಪ್ರಿಂಗ್ ಮೇಲೆ ಸವಾರಿ ಮಾಡುವ ಸಣ್ಣ ಪಾಪ್ಪೆಟ್ ಆಗಿದೆ.ಸ್ಪ್ರಿಂಗ್ ಫೋರ್ಸ್ ಸೀಲಿಂಗ್ ಸೀಟ್‌ನಿಂದ ಪಾಪ್ಪೆಟ್ ಅನ್ನು ತೆರೆಯಲು ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಹೊಂದಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಊಹಿಸುತ್ತದೆ.ರಾಸಾಯನಿಕವು ಹರಿಯಲು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಿದಾಗ, ಪಾಪ್ಪೆಟ್ ಅನ್ನು ಅದರ ಆಸನದಿಂದ ಎತ್ತಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಚೆಕ್ ವಾಲ್ವ್ ಅನ್ನು ತೆರೆಯುತ್ತದೆ.
ಎರಡು ಚೆಕ್ ಕವಾಟಗಳನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸುವ ಅಗತ್ಯವಿದೆ.ಒಂದು ಕವಾಟವು ವೆಲ್ಬೋರ್ ದ್ರವಗಳು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯನ್ನು ಪ್ರವೇಶಿಸುವುದನ್ನು ತಡೆಯುವ ಪ್ರಾಥಮಿಕ ತಡೆಗೋಡೆಯಾಗಿದೆ.ಇದು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ತೆರೆಯುವ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ (2-15 ಬಾರ್‌ಗಳು) .ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯೊಳಗಿನ ಹೈಡ್ರೋಸ್ಟಾಟಿಕ್ ಒತ್ತಡವು ವೆಲ್ಬೋರ್ ಒತ್ತಡಕ್ಕಿಂತ ಕಡಿಮೆಯಿದ್ದರೆ, ವೆಲ್ಬೋರ್ ದ್ರವಗಳು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯನ್ನು ಪ್ರವೇಶಿಸಲು ಪ್ರಯತ್ನಿಸುತ್ತವೆ.ಇತರ ಚೆಕ್ ಕವಾಟವು 130-250 ಬಾರ್‌ಗಳ ವಿಲಕ್ಷಣವಾದ ಆರಂಭಿಕ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಇದನ್ನು ಯು-ಟ್ಯೂಬ್ ತಡೆಗಟ್ಟುವಿಕೆ ವ್ಯವಸ್ಥೆ ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ.ಈ ಕವಾಟವು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯೊಳಗಿನ ರಾಸಾಯನಿಕವು ಮುಕ್ತವಾಗಿ ಬಾವಿಗೆ ಹರಿಯುವುದನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತದೆ, ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯೊಳಗಿನ ಹೈಡ್ರೋಸ್ಟಾಟಿಕ್ ಒತ್ತಡವು ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಯೊಳಗಿನ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಪಾಯಿಂಟ್‌ನಲ್ಲಿರುವ ಬಾವಿ ಒತ್ತಡಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿದ್ದರೆ.
ಎರಡು ಚೆಕ್ ವಾಲ್ವ್‌ಗಳ ಜೊತೆಗೆ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಇನ್-ಲೈನ್ ಫಿಲ್ಟರ್ ಇದೆ, ಯಾವುದೇ ರೀತಿಯ ಶಿಲಾಖಂಡರಾಶಿಗಳು ಚೆಕ್ ವಾಲ್ವ್ ಸಿಸ್ಟಮ್‌ಗಳ ಸೀಲಿಂಗ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯಗಳನ್ನು ಅಪಾಯಕ್ಕೀಡಾಗದಂತೆ ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳುವುದು ಇದರ ಉದ್ದೇಶವಾಗಿದೆ.
ವಿವರಿಸಿದ ಚೆಕ್ ಕವಾಟಗಳ ಗಾತ್ರಗಳು ಚಿಕ್ಕದಾಗಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿನ ದ್ರವದ ಶುಚಿತ್ವವು ಅವುಗಳ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ಕಾರ್ಯಚಟುವಟಿಕೆಗೆ ಅವಶ್ಯಕವಾಗಿದೆ.ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯೊಳಗೆ ಫ್ಲೋರೇಟ್ ಅನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ಮೂಲಕ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿನ ಶಿಲಾಖಂಡರಾಶಿಗಳನ್ನು ತೊಳೆಯಬಹುದು ಎಂದು ನಂಬಲಾಗಿದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಚೆಕ್ ಕವಾಟಗಳು ಉದ್ದೇಶಪೂರ್ವಕವಾಗಿ ತೆರೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತವೆ.
ಚೆಕ್ ಕವಾಟವು ತೆರೆದಾಗ, ಹರಿಯುವ ಒತ್ತಡವು ವೇಗವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಒತ್ತಡವು ಮತ್ತೆ ಹೆಚ್ಚಾಗುವವರೆಗೆ ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯನ್ನು ಹರಡುತ್ತದೆ.ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಹರಿವು ಕವಾಟವನ್ನು ತೆರೆಯಲು ಸಾಕಷ್ಟು ಒತ್ತಡವನ್ನು ನಿರ್ಮಿಸುವವರೆಗೆ ಚೆಕ್ ಕವಾಟವು ಮುಚ್ಚಲ್ಪಡುತ್ತದೆ;ಫಲಿತಾಂಶವು ಚೆಕ್ ವಾಲ್ವ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಒತ್ತಡದ ಆಂದೋಲನವಾಗಿದೆ.ಚೆಕ್ ಕವಾಟ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಹೆಚ್ಚಿನ ಆರಂಭಿಕ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಚೆಕ್ ಕವಾಟವು ತೆರೆದಾಗ ಕಡಿಮೆ ಹರಿವಿನ ಪ್ರದೇಶವನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಸಮತೋಲನ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಪ್ರಯತ್ನಿಸುತ್ತದೆ.
ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟಗಳು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಆರಂಭಿಕ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ;ಮತ್ತು ಕೆಮಿಕಲ್ ಇನ್ಲೆಟ್ ಪಾಯಿಂಟ್‌ನಲ್ಲಿನ ಕೊಳವೆಯ ಒತ್ತಡವು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯೊಳಗಿನ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಹೈಡ್ರೋಸ್ಟಾಟಿಕ್ ಒತ್ತಡದ ಮೊತ್ತಕ್ಕಿಂತ ಕಡಿಮೆಯಾದರೆ ಮತ್ತು ಚೆಕ್ ವಾಲ್ವ್ ತೆರೆಯುವ ಒತ್ತಡ, ನಿರ್ವಾತದ ಸಮೀಪ ಅಥವಾ ನಿರ್ವಾತವು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯ ಮೇಲಿನ ಭಾಗದಲ್ಲಿ ಸಂಭವಿಸುತ್ತದೆ.ರಾಸಾಯನಿಕದ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ನಿಂತಾಗ ಅಥವಾ ರಾಸಾಯನಿಕದ ಹರಿವು ಕಡಿಮೆಯಾದಾಗ, ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯ ಮೇಲಿನ ವಿಭಾಗದಲ್ಲಿ ನಿರ್ವಾತ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು ಸಂಭವಿಸಲು ಪ್ರಾರಂಭವಾಗುತ್ತದೆ.
ನಿರ್ವಾತದ ಮಟ್ಟವು ವೆಲ್ಬೋರ್ ಒತ್ತಡ, ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯೊಳಗೆ ಬಳಸುವ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿನ ರಾಸಾಯನಿಕ ಮಿಶ್ರಣದ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಗುರುತ್ವಾಕರ್ಷಣೆ, ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಪಾಯಿಂಟ್‌ನಲ್ಲಿ ಚೆಕ್ ವಾಲ್ವ್ ತೆರೆಯುವ ಒತ್ತಡ ಮತ್ತು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯೊಳಗಿನ ರಾಸಾಯನಿಕದ ಹರಿವಿನ ಮೇಲೆ ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ.ಕ್ಷೇತ್ರದ ಜೀವಿತಾವಧಿಯಲ್ಲಿ ಬಾವಿ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು ಬದಲಾಗುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ನಿರ್ವಾತದ ಸಂಭಾವ್ಯತೆಯು ಅಧಿಕಾವಧಿಯಲ್ಲಿ ಬದಲಾಗುತ್ತದೆ.ನಿರೀಕ್ಷಿತ ಸವಾಲುಗಳು ಸಂಭವಿಸುವ ಮೊದಲು ಸರಿಯಾದ ಪರಿಗಣನೆ ಮತ್ತು ಮುನ್ನೆಚ್ಚರಿಕೆಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಲು ಈ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಯ ಬಗ್ಗೆ ತಿಳಿದಿರುವುದು ಮುಖ್ಯ.
ಕಡಿಮೆ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿನ ದರಗಳ ಜೊತೆಗೆ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಈ ರೀತಿಯ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ದ್ರಾವಕಗಳು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಅನ್ವೇಷಿಸದ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುವ ಆವಿಯಾಗುತ್ತಿವೆ.ಈ ಪರಿಣಾಮಗಳು ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಅಥವಾ ಘನವಸ್ತುಗಳ ಮಳೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು, ದ್ರಾವಕವು ಆವಿಯಾದಾಗ.
ಇದಲ್ಲದೆ, ರಾಸಾಯನಿಕದ ದ್ರವ ಮೇಲ್ಮೈ ಮತ್ತು ಮೇಲಿನ ನಿರ್ವಾತ ಅನಿಲ ಹಂತದ ಸಮೀಪ ತುಂಬಿದ ಆವಿಯ ನಡುವಿನ ಪರಿವರ್ತನೆಯ ಹಂತದಲ್ಲಿ ಗ್ಯಾಲ್ವನಿಕ್ ಕೋಶಗಳನ್ನು ರಚಿಸಬಹುದು.ಈ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕದ ಹೆಚ್ಚಿದ ಆಕ್ರಮಣಶೀಲತೆಯ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಇದು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯೊಳಗೆ ಸ್ಥಳೀಯ ಪಿಟ್ಟಿಂಗ್ ತುಕ್ಕುಗೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು.ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯ ಒಳಭಾಗವು ಒಣಗಿದಾಗ ಅದರೊಳಗೆ ಫಿಲ್ಮ್ ಆಗಿ ರೂಪುಗೊಂಡ ಚಕ್ಕೆಗಳು ಅಥವಾ ಉಪ್ಪಿನ ಹರಳುಗಳು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯನ್ನು ಜಾಮ್ ಮಾಡಬಹುದು ಅಥವಾ ಪ್ಲಗ್ ಮಾಡಬಹುದು.
ಚೆನ್ನಾಗಿ ತಡೆ ತತ್ವಶಾಸ್ತ್ರ
ದೃಢವಾದ ಬಾವಿ ಪರಿಹಾರಗಳನ್ನು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸುವಾಗ, ಬಾವಿಯ ಜೀವನಚಕ್ರದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಎಲ್ಲಾ ಸಮಯದಲ್ಲೂ ಬಾವಿ ಸುರಕ್ಷತೆಯು ಸ್ಥಳದಲ್ಲಿರಲು ಸ್ಟಾಟೊಯಿಲ್ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ.ಹೀಗಾಗಿ, ಸ್ಟಾಟೊಯಿಲ್‌ಗೆ ಎರಡು ಸ್ವತಂತ್ರ ಬಾವಿ ತಡೆಗಳು ಹಾಗೇ ಇರಬೇಕೆಂದು ಬಯಸುತ್ತದೆ.ಅಂಜೂರ 3 ವಿಲಕ್ಷಣ ಬಾವಿ ತಡೆಗೋಡೆ ಸ್ಕೀಮ್ಯಾಟಿಕ್ ಅನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ, ಅಲ್ಲಿ ನೀಲಿ ಬಣ್ಣವು ಪ್ರಾಥಮಿಕ ಬಾವಿ ತಡೆ ಹೊದಿಕೆಯನ್ನು ಪ್ರತಿನಿಧಿಸುತ್ತದೆ;ಈ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳು.ಕೆಂಪು ಬಣ್ಣವು ದ್ವಿತೀಯ ತಡೆ ಹೊದಿಕೆಯನ್ನು ಪ್ರತಿನಿಧಿಸುತ್ತದೆ;ಕವಚ.ಸ್ಕೆಚ್‌ನಲ್ಲಿ ಎಡಭಾಗದಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದನ್ನು ಕೆಂಪು (ದ್ವಿತೀಯ ತಡೆ) ಎಂದು ಗುರುತಿಸಲಾದ ಪ್ರದೇಶದಲ್ಲಿನ ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳಿಗೆ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಪಾಯಿಂಟ್ನೊಂದಿಗೆ ಕಪ್ಪು ರೇಖೆಯಂತೆ ಸೂಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಬಾವಿಗೆ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳನ್ನು ಪರಿಚಯಿಸುವ ಮೂಲಕ, ಪ್ರಾಥಮಿಕ ಮತ್ತು ದ್ವಿತೀಯ ಬಾವಿ ತಡೆಗೋಡೆಗಳು ಅಪಾಯಕ್ಕೆ ಒಳಗಾಗುತ್ತವೆ.
ತುಕ್ಕು ಮೇಲೆ ಕೇಸ್ ಇತಿಹಾಸ
ಘಟನೆಗಳ ಅನುಕ್ರಮ
ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಅನ್ನು ನಾರ್ವೇಜಿಯನ್ ಕಾಂಟಿನೆಂಟಲ್ ಶೆಲ್ಫ್‌ನಲ್ಲಿ ಸ್ಟಾಟೊಯಿಲ್ ನಿರ್ವಹಿಸುವ ತೈಲಕ್ಷೇತ್ರಕ್ಕೆ ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗಿದೆ.ಈ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ ಅನ್ವಯಿಸಲಾದ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಮೂಲತಃ ಟಾಪ್ಸೈಡ್ ಮತ್ತು ಸಬ್‌ಸೀ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗೆ ಅರ್ಹತೆ ಪಡೆದಿತ್ತು.DHCIpointat2446mMD, Fig.3 ಅನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸುವುದರ ಮೂಲಕ ಬಾವಿಯ ಮರುಪೂರಣವನ್ನು ಅನುಸರಿಸಲಾಯಿತು.ಟಾಪ್ಸೈಡ್ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಅನ್ನು ರಾಸಾಯನಿಕದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪರೀಕ್ಷೆಯಿಲ್ಲದೆ ಪ್ರಾರಂಭಿಸಲಾಯಿತು.
ಒಂದು ವರ್ಷದ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ನಂತರ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಸೋರಿಕೆಯನ್ನು ಗಮನಿಸಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ತನಿಖೆಗಳನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಲಾಯಿತು.ಸೋರಿಕೆಯು ಬಾವಿಯ ತಡೆಗೋಡೆಗಳ ಮೇಲೆ ಹಾನಿಕಾರಕ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಬೀರಿತು.ಹಲವಾರು ಬಾವಿಗಳಿಗೆ ಇದೇ ರೀತಿಯ ಘಟನೆಗಳು ಸಂಭವಿಸಿದವು ಮತ್ತು ತನಿಖೆ ನಡೆಯುತ್ತಿರುವಾಗ ಅವುಗಳಲ್ಲಿ ಕೆಲವು ಮುಚ್ಚಬೇಕಾಯಿತು.
ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳನ್ನು ಎಳೆದು ವಿವರವಾಗಿ ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಯಿತು.ತುಕ್ಕು ದಾಳಿಯು ಕೊಳವೆಯ ಒಂದು ಬದಿಗೆ ಸೀಮಿತವಾಗಿತ್ತು, ಮತ್ತು ಕೆಲವು ಕೊಳವೆಗಳ ಕೀಲುಗಳು ತುಂಬಾ ತುಕ್ಕು ಹಿಡಿದಿವೆ, ಅವುಗಳ ಮೂಲಕ ವಾಸ್ತವವಾಗಿ ರಂಧ್ರಗಳಿವೆ.ಸರಿಸುಮಾರು 8.5mm ದಪ್ಪದ 3% ಕ್ರೋಮ್ ಸ್ಟೀಲ್ 8 ತಿಂಗಳಿಗಿಂತ ಕಡಿಮೆ ಅವಧಿಯಲ್ಲಿ ವಿಭಜನೆಯಾಯಿತು.ಬಾವಿಯ ಮೇಲ್ಭಾಗದಲ್ಲಿ ಮುಖ್ಯ ತುಕ್ಕು ಸಂಭವಿಸಿದೆ, ವೆಲ್‌ಹೆಡ್‌ನಿಂದ ಸುಮಾರು 380m MD ವರೆಗೆ, ಮತ್ತು ಕೆಟ್ಟ ತುಕ್ಕು ಹಿಡಿದ ಕೊಳವೆಗಳ ಕೀಲುಗಳು ಸುಮಾರು 350m MD ಯಲ್ಲಿ ಕಂಡುಬಂದಿವೆ.ಈ ಆಳದ ಕೆಳಗೆ ಸ್ವಲ್ಪ ಅಥವಾ ಯಾವುದೇ ಸವೆತವನ್ನು ಗಮನಿಸಲಾಗಿಲ್ಲ, ಆದರೆ ಕೊಳವೆ OD ಗಳಲ್ಲಿ ಬಹಳಷ್ಟು ಅವಶೇಷಗಳು ಕಂಡುಬಂದಿವೆ.
9-5/8'' ಕೇಸಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಸಹ ಕತ್ತರಿಸಿ ಎಳೆಯಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ಇದೇ ರೀತಿಯ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಗಮನಿಸಲಾಯಿತು;ಒಂದು ಬದಿಯಲ್ಲಿ ಮಾತ್ರ ಬಾವಿಯ ಮೇಲಿನ ವಿಭಾಗದಲ್ಲಿ ಸವೆತದೊಂದಿಗೆ.ಕವಚದ ದುರ್ಬಲ ವಿಭಾಗವನ್ನು ಒಡೆದಿದ್ದರಿಂದ ಪ್ರೇರಿತ ಸೋರಿಕೆ ಉಂಟಾಗುತ್ತದೆ.
ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ ವಸ್ತುವು ಮಿಶ್ರಲೋಹ 825 ಆಗಿತ್ತು.
ರಾಸಾಯನಿಕ ಅರ್ಹತೆ
ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಮತ್ತು ತುಕ್ಕು ಪರೀಕ್ಷೆಯು ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ಗಳ ಅರ್ಹತೆಯಲ್ಲಿ ಪ್ರಮುಖ ಗಮನಹರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನಿಜವಾದ ಪ್ರಮಾಣದ ಪ್ರತಿರೋಧಕವನ್ನು ಅರ್ಹತೆ ಪಡೆದಿದೆ ಮತ್ತು ಹಲವಾರು ವರ್ಷಗಳಿಂದ ಟಾಪ್ಸೈಡ್ ಮತ್ತು ಸಬ್‌ಸೀ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತಿತ್ತು.ನಿಜವಾದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ಅನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಲು ಕಾರಣವೆಂದರೆ ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿರುವ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ರಾಸಾಯನಿಕವನ್ನು ಬದಲಿಸುವ ಮೂಲಕ ಪರಿಸರ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲಾಗಿದೆ ಆದರೆ, ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಅನ್ನು ಸುತ್ತುವರಿದ ಮೇಲ್ಭಾಗ ಮತ್ತು ಸಮುದ್ರದ ತಳದ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಮಾತ್ರ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತಿತ್ತು (4-20 ℃).ಬಾವಿಗೆ ಚುಚ್ಚಿದಾಗ ರಾಸಾಯನಿಕದ ಉಷ್ಣತೆಯು 90 ಡಿಗ್ರಿಗಳಷ್ಟು ಹೆಚ್ಚಿರಬಹುದು, ಆದರೆ ಈ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪರೀಕ್ಷೆಯನ್ನು ನಡೆಸಲಾಗಿಲ್ಲ.
ರಾಸಾಯನಿಕ ಪೂರೈಕೆದಾರರಿಂದ ಆರಂಭಿಕ ತುಕ್ಕು ಪರೀಕ್ಷೆಗಳನ್ನು ನಡೆಸಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಬನ್ ಸ್ಟೀಲ್‌ಗೆ 2-4 ಮಿಮೀ/ವರ್ಷವನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ.ಈ ಹಂತದಲ್ಲಿ ಆಪರೇಟರ್‌ನ ವಸ್ತು ತಾಂತ್ರಿಕ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ಕನಿಷ್ಠ ಒಳಗೊಳ್ಳುವಿಕೆ ಇತ್ತು.ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳು ಮತ್ತು ಉತ್ಪಾದನಾ ಕವಚದಲ್ಲಿನ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಹೆಚ್ಚು ನಾಶಕಾರಿಯಾಗಿದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸುವ ಆಪರೇಟರ್‌ನಿಂದ ಹೊಸ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳನ್ನು ನಂತರ ನಡೆಸಲಾಯಿತು, ತುಕ್ಕು ದರಗಳು 70mm/ವರ್ಷವನ್ನು ಮೀರಿದೆ.ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ ಮೆಟೀರಿಯಲ್ ಅಲಾಯ್ 825 ಅನ್ನು ಇಂಜೆಕ್ಷನ್‌ಗೆ ಮೊದಲು ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ವಿರುದ್ಧ ಪರೀಕ್ಷಿಸಲಾಗಿಲ್ಲ.ಬಾವಿಯ ಉಷ್ಣತೆಯು 90℃ ತಲುಪಬಹುದು ಮತ್ತು ಈ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಸಾಕಷ್ಟು ಪರೀಕ್ಷೆಗಳನ್ನು ನಡೆಸಬೇಕು.
ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಸಾಂದ್ರೀಕೃತ ಪರಿಹಾರವಾಗಿ<3.0 pH ಅನ್ನು ವರದಿ ಮಾಡಿದೆ ಎಂದು ತನಿಖೆಯು ಬಹಿರಂಗಪಡಿಸಿತು.ಆದಾಗ್ಯೂ, pH ಅನ್ನು ಅಳತೆ ಮಾಡಲಾಗಿಲ್ಲ.ನಂತರ ಅಳತೆ ಮಾಡಿದ pH pH 0-1 ನ ಅತ್ಯಂತ ಕಡಿಮೆ ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ.ನೀಡಿರುವ pH ಮೌಲ್ಯಗಳ ಜೊತೆಗೆ ಮಾಪನಗಳು ಮತ್ತು ವಸ್ತು ಪರಿಗಣನೆಗಳ ಅಗತ್ಯವನ್ನು ಇದು ವಿವರಿಸುತ್ತದೆ.
ಫಲಿತಾಂಶಗಳ ವ್ಯಾಖ್ಯಾನ
ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ (Fig.3) ಅನ್ನು ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಪಾಯಿಂಟ್‌ನಲ್ಲಿ ಚೆನ್ನಾಗಿ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಮೀರಿದ ಪ್ರಮಾಣದ ಪ್ರತಿರೋಧಕದ ಹೈಡ್ರೋಸ್ಟಾಟಿಕ್ ಒತ್ತಡವನ್ನು ನೀಡಲು ನಿರ್ಮಿಸಲಾಗಿದೆ.ಬಾವಿಯಲ್ಲಿ ಇರುವುದಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದಲ್ಲಿ ಪ್ರತಿರೋಧಕವನ್ನು ಚುಚ್ಚಲಾಗುತ್ತದೆ.ಇದು ಬಾವಿಯ ಮುಚ್ಚುವಿಕೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಯು-ಟ್ಯೂಬ್ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ.ಕವಾಟವು ಯಾವಾಗಲೂ ಬಾವಿಗಿಂತ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಸಾಲಿನಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದೊಂದಿಗೆ ತೆರೆಯುತ್ತದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ನಲ್ಲಿ ನಿರ್ವಾತ ಅಥವಾ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ಸಂಭವಿಸಬಹುದು.ದ್ರಾವಕದ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯಿಂದಾಗಿ ಅನಿಲ/ದ್ರವ ಪರಿವರ್ತನೆಯ ವಲಯದಲ್ಲಿ ತುಕ್ಕು ಪ್ರಮಾಣ ಮತ್ತು ಪಿಟ್ಟಿಂಗ್ ಅಪಾಯವು ಅತ್ಯಧಿಕವಾಗಿದೆ.ಕೂಪನ್‌ಗಳ ಮೇಲೆ ಪ್ರಯೋಗಾಲಯದ ಪ್ರಯೋಗಗಳು ಈ ಸಿದ್ಧಾಂತವನ್ನು ದೃಢಪಡಿಸಿದವು.ಸೋರಿಕೆ ಅನುಭವಿಸಿದ ಬಾವಿಗಳಲ್ಲಿ, ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ರೇಖೆಗಳಲ್ಲಿನ ಎಲ್ಲಾ ರಂಧ್ರಗಳು ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ರೇಖೆಯ ಮೇಲಿನ ಭಾಗದಲ್ಲಿವೆ.
ಚಿತ್ರ 4 DHC I ಸಾಲಿನ ಛಾಯಾಗ್ರಹಣವನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾದ ಪಿಟ್ಟಿಂಗ್ ಸವೆತವನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.ಹೊರ ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳ ಮೇಲೆ ಕಂಡುಬರುವ ತುಕ್ಕು ಪಿಟ್ಟಿಂಗ್ ಲೀಕೇಜ್ ಪಾಯಿಂಟ್‌ನಿಂದ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಸ್ಥಳೀಯ ಮಾನ್ಯತೆಯನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.ಹೆಚ್ಚು ನಾಶಕಾರಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ ಮೂಲಕ ಉತ್ಪಾದನಾ ಕವಚದ ಮೂಲಕ ಸೋರಿಕೆಯಿಂದ ತುಕ್ಕು ಹಿಡಿಯುವುದರಿಂದ ಸೋರಿಕೆ ಉಂಟಾಗುತ್ತದೆ.ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಅನ್ನು ಹೊಂಡದ ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ರೇಖೆಯಿಂದ ಕೇಸಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಟ್ಯೂಬ್‌ಗಳಿಗೆ ಸಿಂಪಡಿಸಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ಸೋರಿಕೆಗಳು ಸಂಭವಿಸಿದವು.ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಸಾಲಿನಲ್ಲಿ ಸೋರಿಕೆಯ ಯಾವುದೇ ದ್ವಿತೀಯಕ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಪರಿಗಣಿಸಲಾಗಿಲ್ಲ.ಕವಚ ಮತ್ತು ಕೊಳವೆಗಳ ಸವೆತವು ಕೇಂದ್ರೀಕೃತ ಪ್ರಮಾಣದ ಪ್ರತಿಬಂಧಕಗಳು ಪಿಟ್ಡ್ ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ಲೈನ್‌ನಿಂದ ಕೇಸಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಟ್ಯೂಬ್‌ಗಳ ಮೇಲೆ ಪ್ರಾರ್ಥಿಸಿದ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿದೆ ಎಂದು ತೀರ್ಮಾನಿಸಲಾಯಿತು, Fig.5.
ಈ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ ವಸ್ತು ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ಎಂಜಿನಿಯರ್‌ಗಳ ಒಳಗೊಳ್ಳುವಿಕೆಯ ಕೊರತೆ ಕಂಡುಬಂದಿದೆ.DHCI ಲೈನ್‌ನಲ್ಲಿನ ರಾಸಾಯನಿಕದ ಸವೆತವನ್ನು ಪರೀಕ್ಷಿಸಲಾಗಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಸೋರಿಕೆಯಿಂದಾಗಿ ದ್ವಿತೀಯ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಮೌಲ್ಯಮಾಪನ ಮಾಡಲಾಗಿಲ್ಲ;ಸುತ್ತಮುತ್ತಲಿನ ವಸ್ತುಗಳು ರಾಸಾಯನಿಕ ಒಡ್ಡುವಿಕೆಯನ್ನು ತಡೆದುಕೊಳ್ಳಬಲ್ಲವು.
ಕೆಮಿಕಲ್-ಗನ್ ರಾಜನ ಪ್ರಕರಣದ ಇತಿಹಾಸ
ಘಟನೆಗಳ ಅನುಕ್ರಮ
ಡೌನ್ಹೋಲ್ ಸುರಕ್ಷತಾ ಕವಾಟದ ಅಪ್‌ಸ್ಟ್ರೀಮ್‌ಗೆ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್‌ನ ಸ್ಕೇಲ್ ತಡೆಗಟ್ಟುವಿಕೆ ತಂತ್ರವು HP HT ಕ್ಷೇತ್ರವಾಗಿದೆ.ಬಾವಿಯಲ್ಲಿ ತೀವ್ರವಾದ ಕ್ಯಾಲ್ಸಿಯಂ ಕಾರ್ಬೋನೇಟ್ ಸ್ಕೇಲಿಂಗ್ ಸಂಭಾವ್ಯತೆಯನ್ನು ಗುರುತಿಸಲಾಗಿದೆ.ಒಂದು ಸವಾಲು ಎಂದರೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಅನಿಲ ಮತ್ತು ಕಂಡೆನ್ಸೇಟ್ ಉತ್ಪಾದನಾ ದರಗಳು ಕಡಿಮೆ ನೀರಿನ ಉತ್ಪಾದನಾ ದರದೊಂದಿಗೆ ಸಂಯೋಜಿಸಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ.ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಅನ್ನು ಚುಚ್ಚುವ ಮೂಲಕ ಕಾಳಜಿಯು ಹೆಚ್ಚಿನ ಅನಿಲ ಉತ್ಪಾದನೆಯ ದರದಿಂದ ದ್ರಾವಕವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕದ ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಬಾವಿಯಲ್ಲಿನ ಸುರಕ್ಷತಾ ಕವಾಟದ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಪಾಯಿಂಟ್‌ನಲ್ಲಿ ಸಂಭವಿಸುತ್ತದೆ, ಚಿತ್ರ.1.
ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಅರ್ಹತೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಟಾಪ್ಸೈಡ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ (ಕಡಿಮೆ ತಾಪಮಾನ) ವರ್ತನೆಯನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಂತೆ HP HT ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಉತ್ಪನ್ನದ ದಕ್ಷತೆಯ ಮೇಲೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸಲಾಯಿತು.ಹೆಚ್ಚಿನ ಅನಿಲ ದರದಿಂದಾಗಿ ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳಲ್ಲಿ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಮಳೆಯು ಮುಖ್ಯ ಕಾಳಜಿಯಾಗಿದೆ.ಪ್ರಯೋಗಾಲಯ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳು ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಅವಕ್ಷೇಪಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಕೊಳವೆಗಳ ಗೋಡೆಗೆ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳಬಹುದು ಎಂದು ತೋರಿಸಿದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ ಸುರಕ್ಷತಾ ಕವಾಟದ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯು ಅಪಾಯವನ್ನು ಸೋಲಿಸಬಹುದು.
ಕೆಲವು ವಾರಗಳ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ನಂತರ ರಾಸಾಯನಿಕ ರೇಖೆಯು ಸೋರಿಕೆಯಾಗುತ್ತಿದೆ ಎಂದು ಅನುಭವವು ತೋರಿಸಿದೆ.ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ಲೈನ್‌ನಲ್ಲಿ ಸ್ಥಾಪಿಸಲಾದ ಮೇಲ್ಮೈ ಗೇಜ್‌ನಲ್ಲಿ ಬಾವಿ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಮೇಲ್ವಿಚಾರಣೆ ಮಾಡಲು ಸಾಧ್ಯವಾಯಿತು.ಉತ್ತಮ ಸಮಗ್ರತೆಯನ್ನು ಪಡೆಯಲು ರೇಖೆಯನ್ನು ಪ್ರತ್ಯೇಕಿಸಲಾಗಿದೆ.
ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ ಅನ್ನು ಬಾವಿಯಿಂದ ಹೊರತೆಗೆಯಲಾಯಿತು, ಸಮಸ್ಯೆಯನ್ನು ಪತ್ತೆಹಚ್ಚಲು ಮತ್ತು ವೈಫಲ್ಯದ ಸಂಭವನೀಯ ಕಾರಣಗಳನ್ನು ಕಂಡುಹಿಡಿಯಲು ತೆರೆಯಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ಪರೀಕ್ಷಿಸಲಾಯಿತು.Fig.6 ರಲ್ಲಿ ನೋಡಬಹುದಾದಂತೆ, ಗಮನಾರ್ಹ ಪ್ರಮಾಣದ ಅವಕ್ಷೇಪವು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯು ಇದರಲ್ಲಿ ಕೆಲವು ಪ್ರಮಾಣದ ಪ್ರತಿಬಂಧಕವಾಗಿದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸಿದೆ.ಅವಕ್ಷೇಪವು ಸೀಲ್‌ನಲ್ಲಿದೆ ಮತ್ತು ಪಾಪ್ಪೆಟ್ ಮತ್ತು ಕವಾಟವನ್ನು ನಿರ್ವಹಿಸಲಾಗಲಿಲ್ಲ.
ಕವಾಟದ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯೊಳಗಿನ ಶಿಲಾಖಂಡರಾಶಿಗಳಿಂದಾಗಿ ಕವಾಟದ ವೈಫಲ್ಯವು ಉಂಟಾಯಿತು, ಚೆಕ್ ಕವಾಟಗಳು ಲೋಹವನ್ನು ಲೋಹದ ಸೀಟಿಗೆ ತಿನ್ನುವುದನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತದೆ.ಶಿಲಾಖಂಡರಾಶಿಗಳನ್ನು ಪರೀಕ್ಷಿಸಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ಮುಖ್ಯ ಕಣಗಳು ಲೋಹದ ಸಿಪ್ಪೆಗಳು ಎಂದು ಸಾಬೀತಾಯಿತು, ಬಹುಶಃ ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ಲೈನ್ನ ಅನುಸ್ಥಾಪನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುತ್ತದೆ.ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, ಎರಡೂ ಚೆಕ್ ವಾಲ್ವ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಕವಾಟಗಳ ಹಿಂಭಾಗದಲ್ಲಿ ಕೆಲವು ಬಿಳಿ ಶಿಲಾಖಂಡರಾಶಿಗಳನ್ನು ಗುರುತಿಸಲಾಗಿದೆ.ಇದು ಕಡಿಮೆ ಒತ್ತಡದ ಭಾಗವಾಗಿದೆ, ಅಂದರೆ ಬದಿಯು ಯಾವಾಗಲೂ ವೆಲ್ಬೋರ್ ದ್ರವಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಂಪರ್ಕದಲ್ಲಿರುತ್ತದೆ.ಆರಂಭದಲ್ಲಿ, ಕವಾಟಗಳು ತೆರೆದು ವೆಲ್ಬೋರ್ ದ್ರವಗಳಿಗೆ ತೆರೆದುಕೊಂಡಿದ್ದರಿಂದ ಇದು ಉತ್ಪಾದನಾ ಬಾವಿಯಿಂದ ಬಂದ ಭಗ್ನಾವಶೇಷ ಎಂದು ನಂಬಲಾಗಿತ್ತು.ಆದರೆ ಪರೀಕ್ಷೆಯ ಅವಶೇಷಗಳು ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಆಗಿ ಬಳಸುವ ರಾಸಾಯನಿಕದಂತೆಯೇ ರಸಾಯನಶಾಸ್ತ್ರದೊಂದಿಗೆ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಎಂದು ಸಾಬೀತಾಯಿತು.ಇದು ನಮ್ಮ ಆಸಕ್ತಿಯನ್ನು ಸೆಳೆಯಿತು ಮತ್ತು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ಲೈನ್ನಲ್ಲಿರುವ ಈ ಪಾಲಿಮರ್ ಅವಶೇಷಗಳ ಹಿಂದಿನ ಕಾರಣಗಳನ್ನು ಅನ್ವೇಷಿಸಲು ಸ್ಟಾಟೊಯಿಲ್ ಬಯಸಿತು.
ರಾಸಾಯನಿಕ ಅರ್ಹತೆ
HP HT ಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿ ವಿವಿಧ ಉತ್ಪಾದನಾ ಸಮಸ್ಯೆಗಳನ್ನು ತಗ್ಗಿಸಲು ಸೂಕ್ತವಾದ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಆಯ್ಕೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಹಲವು ಸವಾಲುಗಳಿವೆ.ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಡೌನ್ಹೋಲ್ಗಾಗಿ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಅರ್ಹತೆಯಲ್ಲಿ, ಈ ಕೆಳಗಿನ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳನ್ನು ನಡೆಸಲಾಯಿತು:
● ಉತ್ಪನ್ನ ಸ್ಥಿರತೆ
● ಉಷ್ಣ ವಯಸ್ಸಾಗುವಿಕೆ
● ಡೈನಾಮಿಕ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳು
● ರಚನೆ ನೀರು ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೇಟ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ (MEG) ನೊಂದಿಗೆ ಹೊಂದಾಣಿಕೆ
● ಸ್ಟ್ಯಾಟಿಕ್ ಮತ್ತು ಡೈನಾಮಿಕ್ ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಪರೀಕ್ಷೆ
● ಮರು ವಿಸರ್ಜನೆ ಮಾಹಿತಿ ನೀರು, ತಾಜಾ ರಾಸಾಯನಿಕ ಮತ್ತು MEG
ರಾಸಾಯನಿಕವನ್ನು ಪೂರ್ವನಿರ್ಧರಿತ ಡೋಸೇಜ್ ದರದಲ್ಲಿ ಚುಚ್ಚಲಾಗುತ್ತದೆ,ಆದರೆ ನೀರಿನ ಉತ್ಪಾದನೆಯು ಅಗತ್ಯವಾಗಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುವುದಿಲ್ಲ,ಅಂದರೆ ನೀರಿನ ಸ್ಲಗಿಂಗ್.ನೀರಿನ ಗೊಂಡೆಹುಳುಗಳ ನಡುವೆ,ರಾಸಾಯನಿಕವು ಬಾವಿಗೆ ಪ್ರವೇಶಿಸಿದಾಗ,ಇದು ಬಿಸಿಯಿಂದ ಭೇಟಿಯಾಗುತ್ತದೆ,ಹೈಡ್ರೋಕಾರ್ಬನ್ ಅನಿಲದ ವೇಗವಾಗಿ ಹರಿಯುವ ಸ್ಟ್ರೀಮ್.ಇದು ಗ್ಯಾಸ್ ಲಿಫ್ಟ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ನಲ್ಲಿ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಅನ್ನು ಇಂಜೆಕ್ಟ್ ಮಾಡುವಂತೆಯೇ ಇರುತ್ತದೆ (ಫ್ಲೆಮಿಂಗ್ ಎಟಲ್.2003) .ಒಟ್ಟಿಗೆ
ಹೆಚ್ಚಿನ ಅನಿಲ ತಾಪಮಾನ,ದ್ರಾವಕವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವ ಅಪಾಯವು ತುಂಬಾ ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟದ ಅಡಚಣೆಯನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡಬಹುದು.ಹೆಚ್ಚಿನ ಕುದಿಯುವ ಬಿಂದು/ಕಡಿಮೆ ಆವಿಯ ಒತ್ತಡದ ದ್ರಾವಕಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಆವಿ ಒತ್ತಡದ ಡಿಪ್ರೆಸೆಂಟ್ಸ್ (VPD ಗಳು) ನೊಂದಿಗೆ ರೂಪಿಸಲಾದ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳಿಗೆ ಸಹ ಇದು ಅಪಾಯವಾಗಿದೆ .ಭಾಗಶಃ ಅಡೆತಡೆಯ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ,ರಚನೆಯ ನೀರಿನ ಹರಿವು,MEG ಮತ್ತು/ಅಥವಾ ತಾಜಾ ರಾಸಾಯನಿಕವು ನಿರ್ಜಲೀಕರಣಗೊಂಡ ಅಥವಾ ಗನ್ಕ್ ಔಟ್ ರಾಸಾಯನಿಕವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಅಥವಾ ಪುನಃ ಕರಗಿಸಲು ಸಮರ್ಥವಾಗಿರಬೇಕು.
ಈ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ, HP/HTg ನಲ್ಲಿ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಪೋರ್ಟ್‌ಗಳ ಬಳಿ ಹರಿಯುವ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದನಾ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಾಗಿ ಪುನರಾವರ್ತಿಸಲು ಹೊಸ ಪ್ರಯೋಗಾಲಯ ಪರೀಕ್ಷಾ ರಿಗ್ ಅನ್ನು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾಗಿದೆ.ಡೈನಾಮಿಕ್ ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳ ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ಪ್ರಸ್ತಾವಿತ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಗಮನಾರ್ಹ ದ್ರಾವಕ ನಷ್ಟವನ್ನು ದಾಖಲಿಸಲಾಗಿದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.ಇದು ಕ್ಷಿಪ್ರ ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಅಂತಿಮವಾಗಿ ಫ್ಲೋಲೈನ್‌ಗಳನ್ನು ನಿರ್ಬಂಧಿಸಲು ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು.ಆದ್ದರಿಂದ ನೀರಿನ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಮುಂಚಿತವಾಗಿ ಈ ಬಾವಿಗಳಲ್ಲಿ ನಿರಂತರ ರಾಸಾಯನಿಕ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿಗೆ ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಗಮನಾರ್ಹವಾದ ಅಪಾಯವು ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿದೆ ಮತ್ತು ಈ ಕ್ಷೇತ್ರಕ್ಕೆ ಸಾಮಾನ್ಯ ಆರಂಭಿಕ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಗಳನ್ನು ಸರಿಹೊಂದಿಸುವ ನಿರ್ಧಾರಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಯಿತು, ನೀರಿನ ಪ್ರಗತಿಯನ್ನು ಕಂಡುಹಿಡಿಯುವವರೆಗೆ ರಾಸಾಯನಿಕ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದನ್ನು ವಿಳಂಬಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ.
ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಡೌನ್ಹೋಲ್ಗಾಗಿ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಅರ್ಹತೆಯು ದ್ರಾವಕ ಸ್ಟ್ರಿಪ್ಪಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಪಾಯಿಂಟ್‌ನಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಫ್ಲೋಲೈನ್‌ನಲ್ಲಿ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಮನವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಆದರೆ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವಾಲ್ವ್‌ನಲ್ಲಿ ಗನ್ ಕಿಂಗ್‌ನ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಮೌಲ್ಯಮಾಪನ ಮಾಡಲಾಗಿಲ್ಲ.ಗಮನಾರ್ಹ ದ್ರಾವಕ ನಷ್ಟ ಮತ್ತು ಕ್ಷಿಪ್ರ ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಕಾರಣ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟ ಬಹುಶಃ ವಿಫಲವಾಗಿದೆ,Fig.6.ಸಿಸ್ಟಮ್‌ನ ಸಮಗ್ರ ದೃಷ್ಟಿಕೋನವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವುದು ಮುಖ್ಯ ಎಂದು ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ;ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಸವಾಲುಗಳ ಮೇಲೆ ಮಾತ್ರ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸುವುದಿಲ್ಲ,ಆದರೆ ರಾಸಾಯನಿಕದ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಸವಾಲುಗಳು,ಅಂದರೆ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವಾಲ್ವ್.
ಇತರ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಿಂದ ಅನುಭವ
ದೂರದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ಗಳೊಂದಿಗಿನ ಸಮಸ್ಯೆಗಳ ಕುರಿತು ಆರಂಭಿಕ ವರದಿಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾದ ಗುಲ್ ಫ್ಯಾಕ್ ಸ್ಯಾಂಡ್‌ವಿಗ್ ಡಿಸ್ ಉಪಗ್ರಹ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಿಂದ (ಓಸಾ etal.2001) .ಉತ್ಪಾದಿತ ದ್ರವಗಳಿಂದ ಅನಿಲದ ಆಕ್ರಮಣದಿಂದಾಗಿ ರೇಖೆಯೊಳಗೆ ಹೈಡ್ರೇಟ್ ರಚನೆಯಿಂದ ಸಬ್‌ಸೀ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ಗಳನ್ನು ನಿರ್ಬಂಧಿಸಲಾಗಿದೆ. ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟದ ಮೂಲಕ ಸಾಲಿನೊಳಗೆ.ಸಮುದ್ರದೊಳಗಿನ ಉತ್ಪಾದನಾ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಗೆ ಹೊಸ ಮಾರ್ಗಸೂಚಿಗಳನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ.ಆವಶ್ಯಕತೆಗಳಲ್ಲಿ ಕಣ ತೆಗೆಯುವಿಕೆ (ಫಿಲ್ಟ್ರೇಶನ್) ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೇಟ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ (ಉದಾ ಗ್ಲೈಕಾಲ್) ಅನ್ನು ಎಲ್ಲಾ ನೀರು ಆಧಾರಿತ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್‌ಗಳಿಗೆ ಸೇರಿಸುವುದನ್ನು ಸಬ್‌ಸೀ ಟೆಂಪ್ಲೇಟ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಚುಚ್ಚಲಾಗುತ್ತದೆ.ರಾಸಾಯನಿಕ ಸ್ಥಿರತೆ,ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ ಮತ್ತು ಹೊಂದಾಣಿಕೆ (ದ್ರವ ಮತ್ತು ವಸ್ತುಗಳು) ಸಹ ಪರಿಗಣಿಸಲಾಗಿದೆ.ಈ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಸ್ಟಾಟೊಯಿಲ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗೆ ಮತ್ತಷ್ಟು ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಡೌನ್ಹೋಲ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಅನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿದೆ.
Oseberg S ಅಥವಾ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯ ಹಂತದಲ್ಲಿ ಎಲ್ಲಾ ಬಾವಿಗಳನ್ನು DHC I ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳೊಂದಿಗೆ ಪೂರ್ಣಗೊಳಿಸಬೇಕೆಂದು ನಿರ್ಧರಿಸಲಾಯಿತು (Fleming etal.2006) .ಉದ್ದೇಶವು CaCO ಯನ್ನು ತಡೆಗಟ್ಟುವುದು.;SI ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಮೂಲಕ ಮೇಲಿನ ಕೊಳವೆಗಳಲ್ಲಿ ಸ್ಕೇಲಿಂಗ್.ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ರೇಖೆಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಒಂದು ಪ್ರಮುಖ ಸವಾಲು ಎಂದರೆ ಮೇಲ್ಮೈ ಮತ್ತು ಡೌನ್ಹೋಲ್ ಔಟ್‌ಲೆಟ್ ನಡುವಿನ ಸಂವಹನವನ್ನು ಸಾಧಿಸುವುದು.ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ರೇಖೆಯ ಆಂತರಿಕ ವ್ಯಾಸವು 7mm ನಿಂದ 0.7mm (ID) ಗೆ ಕಿರಿದಾಗಿದೆ ಸುರಕ್ಷತಾ ಕವಾಟದ ಸುತ್ತ ಬಾಹ್ಯಾಕಾಶ ಮಿತಿಗಳು ಮತ್ತು ಈ ವಿಭಾಗದ ಮೂಲಕ ದ್ರವವನ್ನು ಸಾಗಿಸುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವು ಯಶಸ್ಸಿನ ದರದ ಮೇಲೆ ಪ್ರಭಾವ ಬೀರಿದೆ.ಹಲವಾರು ಪ್ಲಾಟ್‌ಫಾರ್ಮ್ ಬಾವಿಗಳು ಪ್ಲಗ್ ಮಾಡಲಾದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದ್ದವು,ಆದರೆ ಕಾರಣ ಅರ್ಥವಾಗಲಿಲ್ಲ.ವಿವಿಧ ದ್ರವಗಳ ರೈಲುಗಳು (ಗ್ಲೈಕೋಲ್,ಕಚ್ಚಾ,ಕಂಡೆನ್ಸೇಟ್,ಕ್ಸೈಲೀನ್,ಪ್ರಮಾಣದ ಪ್ರತಿಬಂಧಕ,ನೀರು ಇತ್ಯಾದಿ) ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ ಮತ್ತು ಹೊಂದಾಣಿಕೆಗಾಗಿ ಪ್ರಯೋಗಾಲಯವನ್ನು ಪರೀಕ್ಷಿಸಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ಸಾಲುಗಳನ್ನು ತೆರೆಯಲು ಮುಂದಕ್ಕೆ ಮತ್ತು ಹಿಮ್ಮುಖ ಹರಿವಿನಲ್ಲಿ ಪಂಪ್ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ;ಆದಾಗ್ಯೂ,ಟಾರ್ಗೆಟ್ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಅನ್ನು ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವಾಲ್ವ್‌ಗೆ ಎಲ್ಲಾ ರೀತಿಯಲ್ಲಿ ಪಂಪ್ ಮಾಡಲು ಸಾಧ್ಯವಾಗಲಿಲ್ಲ.ಮತ್ತಷ್ಟು,ಒಂದು ಬಾವಿಯಲ್ಲಿ ಉಳಿದಿರುವ CaCl z ಕಂಪ್ಲೀಶನ್ ಬ್ರೈನ್ ಜೊತೆಗೆ ಫಾಸ್ಫೋನೇಟ್ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಅವಕ್ಷೇಪದೊಂದಿಗೆ ತೊಡಕುಗಳು ಕಂಡುಬಂದವು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಗ್ಯಾಸಾಯಿಲ್ ಅನುಪಾತ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ನೀರಿನ ಕಡಿತದೊಂದಿಗೆ ಬಾವಿಯೊಳಗೆ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಗನ್ ಕಿಂಗ್ (ಫ್ಲೆಮಿಂಗ್ etal.2006)
ಕಲಿತ ಪಾಠಗಳು
ಪರೀಕ್ಷಾ ವಿಧಾನದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ
DHC I ಸಿಸ್ಟಮ್‌ಗಳ ವೈಫಲ್ಯದಿಂದ ಕಲಿತ ಮುಖ್ಯ ಪಾಠಗಳು ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ತಾಂತ್ರಿಕ ದಕ್ಷತೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಮತ್ತು ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕತೆ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್‌ಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಅಲ್ಲ.ಟಾಪ್ಸೈಡ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಮತ್ತು ಸಬ್‌ಸೀ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಉತ್ತಮವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತವೆ;ಆದಾಗ್ಯೂ,ರಾಸಾಯನಿಕ ಅರ್ಹತಾ ವಿಧಾನಗಳ ಅನುಗುಣವಾದ ನವೀಕರಣವಿಲ್ಲದೆಯೇ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್‌ಗೆ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಅನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸಲಾಗಿದೆ.ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸಿದ ಎರಡು ಕ್ಷೇತ್ರ ಪ್ರಕರಣಗಳಿಂದ ಸ್ಟಾಟೊಯಿಲ್‌ನ ಅನುಭವವೆಂದರೆ ಈ ರೀತಿಯ ರಾಸಾಯನಿಕ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸಲು ರಾಸಾಯನಿಕ ಅರ್ಹತೆಗಾಗಿ ಆಡಳಿತ ದಸ್ತಾವೇಜನ್ನು ಅಥವಾ ಮಾರ್ಗಸೂಚಿಗಳನ್ನು ನವೀಕರಿಸಬೇಕು.ಮುಖ್ಯವಾದ ಎರಡು ಸವಾಲುಗಳನ್ನು i) ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ನಲ್ಲಿ ನಿರ್ವಾತ ಮತ್ತು ii) ರಾಸಾಯನಿಕದ ಸಂಭಾವ್ಯ ಅವಕ್ಷೇಪ ಎಂದು ಗುರುತಿಸಲಾಗಿದೆ.
ರಾಸಾಯನಿಕದ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯು ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳ ಮೇಲೆ ಸಂಭವಿಸಬಹುದು (ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಕೇಸ್‌ನಲ್ಲಿ ಕಂಡುಬರುವಂತೆ) ಮತ್ತು ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಟ್ಯೂಬ್‌ಗಳಲ್ಲಿ (ನಿರ್ವಾತ ಪ್ರಕರಣದಲ್ಲಿ ಅಸ್ಥಿರ ಇಂಟರ್ಫೇಸ್ ಅನ್ನು ಗುರುತಿಸಲಾಗಿದೆ) ಈ ಅವಕ್ಷೇಪಗಳು ಹರಿವಿನೊಂದಿಗೆ ಚಲಿಸುವ ಅಪಾಯವಿದೆ ಮತ್ತು ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟಕ್ಕೆ ಮತ್ತು ಮತ್ತಷ್ಟು ಬಾವಿಗೆ.ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಪಾಯಿಂಟ್‌ನ ಅಪ್‌ಸ್ಟ್ರೀಮ್‌ನಲ್ಲಿ ಫಿಲ್ಟರ್‌ನೊಂದಿಗೆ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾಗಿದೆ,ಇದು ಒಂದು ಸವಾಲು,ಮಳೆಯ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ ಈ ಫಿಲ್ಟರ್ ಅನ್ನು ಪ್ಲಗ್ ಮಾಡಲಾಗಿರುವುದರಿಂದ ಕವಾಟವು ವಿಫಲಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.
ಕಲಿತ ಪಾಠಗಳಿಂದ ಅವಲೋಕನಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ರಾಥಮಿಕ ತೀರ್ಮಾನಗಳು ವಿದ್ಯಮಾನಗಳ ಮೇಲೆ ವ್ಯಾಪಕವಾದ ಪ್ರಯೋಗಾಲಯ ಅಧ್ಯಯನಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಯಿತು.ಭವಿಷ್ಯದಲ್ಲಿ ಇದೇ ರೀತಿಯ ಸಮಸ್ಯೆಗಳನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಲು ಹೊಸ ಅರ್ಹತಾ ವಿಧಾನಗಳನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸುವುದು ಒಟ್ಟಾರೆ ಉದ್ದೇಶವಾಗಿದೆ.ಈ ಅಧ್ಯಯನದಲ್ಲಿ ವಿವಿಧ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳನ್ನು ಕೈಗೊಳ್ಳಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಗುರುತಿಸಲಾದ ಸವಾಲುಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳನ್ನು ಪರೀಕ್ಷಿಸಲು ಹಲವಾರು ಪ್ರಯೋಗಾಲಯ ವಿಧಾನಗಳನ್ನು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾಗಿದೆ (ಕ್ರಮದಲ್ಲಿ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ).
● ಮುಚ್ಚಿದ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳಲ್ಲಿ ಫಿಲ್ಟರ್ ಅಡೆತಡೆಗಳು ಮತ್ತು ಉತ್ಪನ್ನದ ಸ್ಥಿರತೆ.
● ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ನಾಶದ ಮೇಲೆ ಭಾಗಶಃ ದ್ರಾವಕ ನಷ್ಟದ ಪರಿಣಾಮ.
● ಘನವಸ್ತುಗಳು ಅಥವಾ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ ಪ್ಲಗ್‌ಗಳ ರಚನೆಯ ಮೇಲೆ ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿಯೊಳಗಿನ ಭಾಗಶಃ ದ್ರಾವಕ ನಷ್ಟದ ಪರಿಣಾಮ.
ಪ್ರಯೋಗಾಲಯ ವಿಧಾನಗಳ ಪರೀಕ್ಷೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಹಲವಾರು ಸಂಭಾವ್ಯ ಸಮಸ್ಯೆಗಳನ್ನು ಗುರುತಿಸಲಾಗಿದೆ
● ಪುನರಾವರ್ತಿತ ಫಿಲ್ಟರ್ ಅಡೆತಡೆಗಳು ಮತ್ತು ಕಳಪೆ ಸ್ಥಿರತೆ.
● ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿಯಿಂದ ಭಾಗಶಃ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ನಂತರ ಘನವಸ್ತುಗಳ ರಚನೆ
● ದ್ರಾವಕ ನಷ್ಟದಿಂದಾಗಿ PH ಬದಲಾವಣೆಗಳು.
ನಡೆಸಿದ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳ ಸ್ವರೂಪವು ಕೆಲವು ಷರತ್ತುಗಳಿಗೆ ಒಳಪಟ್ಟಾಗ ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿಗಳೊಳಗಿನ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಭೌತಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳಲ್ಲಿನ ಬದಲಾವಣೆಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಮಾಹಿತಿ ಮತ್ತು ಜ್ಞಾನವನ್ನು ಸಹ ಒದಗಿಸಿದೆ.,ಮತ್ತು ಇದೇ ರೀತಿಯ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಿಗೆ ಒಳಪಟ್ಟಿರುವ ಬೃಹತ್ ಪರಿಹಾರಗಳಿಂದ ಇದು ಹೇಗೆ ಭಿನ್ನವಾಗಿದೆ.ಪರೀಕ್ಷಾ ಕಾರ್ಯವು ಬೃಹತ್ ದ್ರವದ ನಡುವೆ ಗಣನೀಯ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳನ್ನು ಗುರುತಿಸಿದೆ,ಆವಿಯ ಹಂತಗಳು ಮತ್ತು ಉಳಿದಿರುವ ದ್ರವಗಳು ಮಳೆ ಮತ್ತು/ಅಥವಾ ಹೆಚ್ಚಿದ ಸವೆತದ ಸಂಭಾವ್ಯತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಬಹುದು.
ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ಗಳ ಸವೆತದ ಪರೀಕ್ಷಾ ವಿಧಾನವನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಆಡಳಿತ ದಾಖಲಾತಿಯಲ್ಲಿ ಸೇರಿಸಲಾಗಿದೆ.ಪ್ರತಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗೆ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದನ್ನು ಅಳವಡಿಸುವ ಮೊದಲು ವಿಸ್ತೃತ ತುಕ್ಕು ಪರೀಕ್ಷೆಯನ್ನು ನಡೆಸಬೇಕಾಗಿತ್ತು.ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ನಲ್ಲಿರುವ ರಾಸಾಯನಿಕದ ಗನ್ ಕಿಂಗ್ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳನ್ನು ಸಹ ನಡೆಸಲಾಗಿದೆ.
ರಾಸಾಯನಿಕದ ಅರ್ಹತೆಯನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸುವ ಮೊದಲು, ರಾಸಾಯನಿಕದ ಸವಾಲುಗಳು ಮತ್ತು ಉದ್ದೇಶವನ್ನು ವಿವರಿಸುವ ಕೆಲಸದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯನ್ನು ರಚಿಸುವುದು ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ.ಆರಂಭಿಕ ಹಂತದಲ್ಲಿ ಸಮಸ್ಯೆಯನ್ನು ಪರಿಹರಿಸುವ ರಾಸಾಯನಿಕ (ಗಳ) ಪ್ರಕಾರಗಳನ್ನು ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡಲು ಸಾಧ್ಯವಾಗುವ ಮುಖ್ಯ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಗುರುತಿಸುವುದು ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ.ಪ್ರಮುಖ ಅಂಗೀಕಾರದ ಮಾನದಂಡಗಳ ಸಾರಾಂಶವನ್ನು ಕೋಷ್ಟಕ 2 ರಲ್ಲಿ ಕಾಣಬಹುದು.
ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಅರ್ಹತೆ
ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಅರ್ಹತೆಯು ಪ್ರತಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗೆ ಪರೀಕ್ಷೆ ಮತ್ತು ಸೈದ್ಧಾಂತಿಕ ಮೌಲ್ಯಮಾಪನಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ.ತಾಂತ್ರಿಕ ವಿವರಣೆ ಮತ್ತು ಪರೀಕ್ಷಾ ಮಾನದಂಡಗಳನ್ನು ವ್ಯಾಖ್ಯಾನಿಸಬೇಕು ಮತ್ತು ಸ್ಥಾಪಿಸಬೇಕು,ಉದಾಹರಣೆಗೆ HSE ಒಳಗೆ,ವಸ್ತು ಹೊಂದಾಣಿಕೆ,ಉತ್ಪನ್ನ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಉತ್ಪನ್ನದ ಗುಣಮಟ್ಟ (ಕಣಗಳು).ಮತ್ತಷ್ಟು,ಘನೀಕರಿಸುವ ಬಿಂದು,ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ ಮತ್ತು ಇತರ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೊಂದಾಣಿಕೆ,ಹೈಡ್ರೇಟ್ ಪ್ರತಿರೋಧಕ,ರಚನೆಯ ನೀರು ಮತ್ತು ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ ದ್ರವವನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಬೇಕು.ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಅರ್ಹತೆಗಾಗಿ ಬಳಸಬಹುದಾದ ಪರೀಕ್ಷಾ ವಿಧಾನಗಳ ಸರಳೀಕೃತ ಪಟ್ಟಿಯನ್ನು ಕೋಷ್ಟಕ 2 ರಲ್ಲಿ ನೀಡಲಾಗಿದೆ.
ತಾಂತ್ರಿಕ ದಕ್ಷತೆಯ ಮೇಲೆ ನಿರಂತರ ಗಮನ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ವಿಚಾರಣೆ,ಡೋಸೇಜ್ ದರಗಳು ಮತ್ತು HSE ಸತ್ಯಗಳು ಮುಖ್ಯವಾಗಿವೆ.ಉತ್ಪನ್ನದ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು ಕ್ಷೇತ್ರ ಅಥವಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಸಸ್ಯದ ಜೀವಿತಾವಧಿಯನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸಬಹುದು;ಉತ್ಪಾದನಾ ದರಗಳು ಮತ್ತು ದ್ರವ ಸಂಯೋಜನೆಯೊಂದಿಗೆ ಬದಲಾಗುತ್ತದೆ.ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೌಲ್ಯಮಾಪನದೊಂದಿಗೆ ಅನುಸರಣಾ ಚಟುವಟಿಕೆ,ಸೂಕ್ತವಾದ ಚಿಕಿತ್ಸಾ ಕಾರ್ಯಕ್ರಮವನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲು ಹೊಸ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಆಪ್ಟಿಮೈಸೇಶನ್ ಮತ್ತು/ಅಥವಾ ಪರೀಕ್ಷೆಯನ್ನು ಆಗಾಗ್ಗೆ ಮಾಡಬೇಕು.
ತೈಲ ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ,ಕಡಲಾಚೆಯ ಉತ್ಪಾದನಾ ಘಟಕದಲ್ಲಿ ನೀರಿನ ಉತ್ಪಾದನೆ ಮತ್ತು ತಾಂತ್ರಿಕ ಸವಾಲುಗಳು,ರಫ್ತು ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಉತ್ಪಾದನಾ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಬಳಕೆ ಅಗತ್ಯವಾಗಬಹುದು,ನಿಯಂತ್ರಕ ಅಗತ್ಯತೆಗಳು,ಮತ್ತು ಕಡಲಾಚೆಯ ಅನುಸ್ಥಾಪನೆಯನ್ನು ಸುರಕ್ಷಿತ ರೀತಿಯಲ್ಲಿ ನಿರ್ವಹಿಸಲು.ಎಲ್ಲಾ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳು ವಿಭಿನ್ನ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ, ಮತ್ತು ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಉತ್ಪಾದನಾ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳು ಕ್ಷೇತ್ರದಿಂದ ಕ್ಷೇತ್ರಕ್ಕೆ ಮತ್ತು ಅಧಿಕಾವಧಿಗೆ ಬದಲಾಗುತ್ತವೆ.
ಅರ್ಹತಾ ಕಾರ್ಯಕ್ರಮದಲ್ಲಿ ಉತ್ಪಾದನಾ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ತಾಂತ್ರಿಕ ದಕ್ಷತೆಯ ಮೇಲೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸುವುದು ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ,ಆದರೆ ರಾಸಾಯನಿಕದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸುವುದು ಬಹಳ ಮುಖ್ಯ,ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಸ್ಥಿರತೆ,ಉತ್ಪನ್ನ ಗುಣಮಟ್ಟ ಮತ್ತು ಹೊಂದಾಣಿಕೆ.ಈ ಸೆಟ್ಟಿಂಗ್‌ನಲ್ಲಿ ಹೊಂದಾಣಿಕೆ ಎಂದರೆ ದ್ರವಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೊಂದಾಣಿಕೆ,ವಸ್ತುಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಉತ್ಪಾದನಾ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳು.ಇದು ಒಂದು ಸವಾಲಾಗಿರಬಹುದು.ರಾಸಾಯನಿಕವು ಹೊಸ ಸವಾಲುಗಳಿಗೆ ಕೊಡುಗೆ ನೀಡುತ್ತದೆ ಅಥವಾ ಸೃಷ್ಟಿಸುತ್ತದೆ ಎಂಬುದನ್ನು ನಂತರ ಕಂಡುಹಿಡಿಯಲು ಸಮಸ್ಯೆಯನ್ನು ಪರಿಹರಿಸಲು ರಾಸಾಯನಿಕವನ್ನು ಬಳಸುವುದು ಅಪೇಕ್ಷಣೀಯವಲ್ಲ.ಇದು ಬಹುಶಃ ರಾಸಾಯನಿಕದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಮತ್ತು ತಾಂತ್ರಿಕ ಸವಾಲಲ್ಲ, ಅದು ದೊಡ್ಡ ಸವಾಲಾಗಿದೆ.
ವಿಶೇಷ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು
ಸರಬರಾಜು ಮಾಡಿದ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಶೋಧನೆಯ ಮೇಲೆ ವಿಶೇಷ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಸಬ್ಸಿ ಸಿಸ್ಟಮ್ಗೆ ಮತ್ತು ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಡೌನ್ಹೋಲ್ಗಾಗಿ ಅನ್ವಯಿಸಬೇಕು.ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಸ್ಟ್ರೈನರ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಟರ್‌ಗಳನ್ನು ಟಾಪ್ಸೈಡ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಸಿಸ್ಟಮ್‌ನಿಂದ ಡೌನ್‌ಸ್ಟ್ರೀಮ್ ಉಪಕರಣಗಳ ನಿರ್ದಿಷ್ಟತೆಯ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಒದಗಿಸಬೇಕು.,ಪಂಪ್ಗಳು ಮತ್ತು ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟಗಳು,ಡೌನ್ಹೋಲ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟಗಳಿಗೆ.ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಅನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಿದಾಗ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿನ ವಿವರಣೆಯು ಹೆಚ್ಚಿನ ವಿಮರ್ಶಾತ್ಮಕತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ನಿರ್ದಿಷ್ಟತೆಯನ್ನು ಆಧರಿಸಿರಬೇಕು.ಇದು ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವಾಲ್ವ್ ಡೌನ್‌ಹೋಲ್‌ನಲ್ಲಿರುವ ಫಿಲ್ಟರ್ ಆಗಿರಬಹುದು.
ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಸವಾಲುಗಳು
ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಹೊಕ್ಕುಳಿನ ಉಪಸಮುದ್ರದ ಹರಿವಿನ 3-50 ಕಿಮೀ ದೂರವನ್ನು ಮತ್ತು ಬಾವಿಗೆ 1-3 ಕಿಮೀ ಕೆಳಗೆ ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕಗಳನ್ನು ಪಂಪ್ ಮಾಡುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದಂತಹ ಭೌತಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಮುಖ್ಯವಾಗಿವೆ.ಸಮುದ್ರದ ತಳದ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ ತುಂಬಾ ಹೆಚ್ಚಿದ್ದರೆ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ರೇಖೆಯ ಮೂಲಕ ಸಮುದ್ರದ ಹೊಕ್ಕುಳಿನ ಮತ್ತು ಸಬ್‌ಸೀ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಪಾಯಿಂಟ್‌ಗೆ ಅಥವಾ ಬಾವಿಯಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕವನ್ನು ಪಂಪ್ ಮಾಡುವುದು ಒಂದು ಸವಾಲಾಗಿದೆ.ನಿರೀಕ್ಷಿತ ಸಂಗ್ರಹಣೆ ಅಥವಾ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯು ಸಿಸ್ಟಮ್ ವಿವರಣೆಯ ಪ್ರಕಾರ ಇರಬೇಕು.ಪ್ರತಿ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ ಇದನ್ನು ಮೌಲ್ಯಮಾಪನ ಮಾಡಬೇಕು,ಮತ್ತು ಸಿಸ್ಟಮ್ ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ.ಟೇಬಲ್ ಕೆಮಿಕಲ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ದರವು ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್‌ನಲ್ಲಿ ಯಶಸ್ಸಿಗೆ ಒಂದು ಅಂಶವಾಗಿದೆ.ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ ಅನ್ನು ಪ್ಲಗ್ ಮಾಡುವ ಅಪಾಯವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು,ಈ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿನ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳನ್ನು ಹೈಡ್ರೇಟ್ ಪ್ರತಿಬಂಧಿಸಬೇಕು (ಹೈಡ್ರೇಟ್‌ಗಳಿಗೆ ಸಂಭಾವ್ಯವಾಗಿದ್ದರೆ).ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಇರುವ ದ್ರವಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೊಂದಾಣಿಕೆ (ಸಂರಕ್ಷಣಾ ದ್ರವ) ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೇಟ್ ಪ್ರತಿಬಂಧಕವನ್ನು ನಿರ್ವಹಿಸಬೇಕು.ನೈಜ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕದ ಸ್ಥಿರತೆ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳು (ಕಡಿಮೆ ಸಂಭವನೀಯ ಸುತ್ತುವರಿದ ತಾಪಮಾನ,ಹೊರಗಿನ ತಾಪಮಾನ,ಸಾಗರದೊಳಗಿನ ತಾಪಮಾನ,ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ತಾಪಮಾನ) ರವಾನಿಸಬೇಕು.
ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಆವರ್ತನದಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ರೇಖೆಗಳನ್ನು ತೊಳೆಯುವ ಪ್ರೋಗ್ರಾಂ ಅನ್ನು ಸಹ ಪರಿಗಣಿಸಬೇಕು.ದ್ರಾವಕದೊಂದಿಗೆ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ ಅನ್ನು ನಿಯಮಿತವಾಗಿ ಫ್ಲಶ್ ಮಾಡಲು ಇದು ತಡೆಗಟ್ಟುವ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ನೀಡಬಹುದು,ಗ್ಲೈಕೋಲ್ ಅಥವಾ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ರಾಸಾಯನಿಕವು ಸಂಗ್ರಹವಾಗುವ ಮೊದಲು ಸಂಭವನೀಯ ನಿಕ್ಷೇಪಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಮತ್ತು ರೇಖೆಯ ಪ್ಲಗಿಂಗ್ಗೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು.ಫ್ಲಶಿಂಗ್ ದ್ರವದ ಆಯ್ಕೆಮಾಡಿದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಪರಿಹಾರವು ಇರಬೇಕುಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ನಲ್ಲಿರುವ ರಾಸಾಯನಿಕದೊಂದಿಗೆ ಹೊಂದಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.
ಕೆಲವು ಸಂದರ್ಭಗಳಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ ಅನ್ನು ಹಲವಾರು ರಾಸಾಯನಿಕ ಅನ್ವಯಗಳಿಗೆ ಕ್ಷೇತ್ರ ಜೀವಿತಾವಧಿಯಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ದ್ರವ ಸ್ಥಿತಿಗಳ ಮೇಲೆ ವಿವಿಧ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಆಧರಿಸಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ನೀರಿನ ಪ್ರಗತಿಯ ಮೊದಲು ಆರಂಭಿಕ ಉತ್ಪಾದನಾ ಹಂತದಲ್ಲಿ ಮುಖ್ಯ ಸವಾಲುಗಳು ಜೀವಿತಾವಧಿಯ ಕೊನೆಯಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿದ ನೀರಿನ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಭಿನ್ನವಾಗಿರುತ್ತವೆ.ಜಲೀಯವಲ್ಲದ ದ್ರಾವಕ ಆಧಾರಿತ ಪ್ರತಿರೋಧಕಗಳಾದ ಆಸ್ಫಾಲ್ಟ್ ಎನೆ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್‌ನಿಂದ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್‌ನಂತಹ ನೀರು ಆಧಾರಿತ ರಾಸಾಯನಿಕಕ್ಕೆ ಬದಲಾಯಿಸುವುದು ಹೊಂದಾಣಿಕೆಯೊಂದಿಗೆ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ನಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕವನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸಲು ಯೋಜಿಸಿದಾಗ ಹೊಂದಾಣಿಕೆ ಮತ್ತು ಅರ್ಹತೆ ಮತ್ತು ಸ್ಪೇಸರ್‌ಗಳ ಬಳಕೆಯ ಮೇಲೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸುವುದು ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ.
ಮೆಟೀರಿಯಲ್ಸ್
ವಸ್ತು ಹೊಂದಾಣಿಕೆಯ ಬಗ್ಗೆ,ಎಲ್ಲಾ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳು ಸೀಲುಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೊಂದಿಕೆಯಾಗಬೇಕು,ಎಲಾಸ್ಟೊಮರ್ಗಳು,ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆ ಮತ್ತು ಉತ್ಪಾದನಾ ಘಟಕದಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ಗ್ಯಾಸ್ಕೆಟ್ಗಳು ಮತ್ತು ನಿರ್ಮಾಣ ಸಾಮಗ್ರಿಗಳು.ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಡೌನ್ಹೋಲ್ಗಾಗಿ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ (ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಆಮ್ಲೀಯ ಪ್ರಮಾಣದ ಪ್ರತಿಬಂಧಕ) ಸವೆತದ ಪರೀಕ್ಷಾ ವಿಧಾನವನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಬೇಕು.ಪ್ರತಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗೆ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದನ್ನು ಅಳವಡಿಸುವ ಮೊದಲು ವಿಸ್ತೃತ ತುಕ್ಕು ಪರೀಕ್ಷೆಯನ್ನು ಮಾಡಬೇಕಾಗಿದೆ.
ಚರ್ಚೆ
ನಿರಂತರ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್‌ನ ಅನುಕೂಲಗಳು ಮತ್ತು ಅನಾನುಕೂಲಗಳನ್ನು ಮೌಲ್ಯಮಾಪನ ಮಾಡಬೇಕು.DHS Vor ಅನ್ನು ರಕ್ಷಿಸಲು ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ನಿರಂತರ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದು ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳು ಬಾವಿಯನ್ನು ಪ್ರಮಾಣದಿಂದ ರಕ್ಷಿಸಲು ಒಂದು ಸೊಗಸಾದ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ.ಈ ಪತ್ರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಹೇಳಿದಂತೆ ನಿರಂತರ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಹಲವಾರು ಸವಾಲುಗಳಿವೆ,ಆದಾಗ್ಯೂ ಅಪಾಯವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಪರಿಹಾರಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ವಿದ್ಯಮಾನಗಳನ್ನು ಅರ್ಥಮಾಡಿಕೊಳ್ಳುವುದು ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ.
ಅಪಾಯವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಒಂದು ಮಾರ್ಗವೆಂದರೆ ಪರೀಕ್ಷಾ ವಿಧಾನದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯ ಮೇಲೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸುವುದು.ಮೇಲ್ಬದಿಯ ಅಥವಾ ಸಮುದ್ರದೊಳಗಿನ ರಾಸಾಯನಿಕ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಬಾವಿಯಲ್ಲಿ ವಿಭಿನ್ನ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚು ತೀವ್ರವಾದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಿವೆ.ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಡೌನ್‌ಹೋಲ್‌ನ ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್‌ಗಾಗಿ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಅರ್ಹತಾ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವು ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿನ ಈ ಬದಲಾವಣೆಗಳನ್ನು ಪರಿಗಣನೆಗೆ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಬೇಕು.ರಾಸಾಯನಿಕಗಳು ಸಂಪರ್ಕಕ್ಕೆ ಬರಬಹುದಾದ ವಸ್ತುವಿನ ಪ್ರಕಾರ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ಅರ್ಹತೆಯನ್ನು ಮಾಡಬೇಕು.ಈ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳು ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುವ ವಿವಿಧ ಉತ್ತಮ ಜೀವನಚಕ್ರ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳನ್ನು ಸಾಧ್ಯವಾದಷ್ಟು ಹತ್ತಿರದಲ್ಲಿ ಪುನರಾವರ್ತಿಸುವ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಹೊಂದಾಣಿಕೆಯ ಅರ್ಹತೆ ಮತ್ತು ಪರೀಕ್ಷೆಯ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ನವೀಕರಿಸಬೇಕು ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯಗತಗೊಳಿಸಬೇಕು.ಪರೀಕ್ಷಾ ವಿಧಾನದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚು ವಾಸ್ತವಿಕ ಮತ್ತು ಪ್ರಾತಿನಿಧಿಕ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳಿಗೆ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಬೇಕಾಗಿದೆ.
ಜೊತೆಗೆ,ರಾಸಾಯನಿಕಗಳು ಮತ್ತು ಉಪಕರಣಗಳ ನಡುವಿನ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯು ಯಶಸ್ಸಿಗೆ ಅವಶ್ಯಕವಾಗಿದೆ.ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಕವಾಟಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯು ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಮತ್ತು ಬಾವಿಯಲ್ಲಿನ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟದ ಸ್ಥಳವನ್ನು ಗಣನೆಗೆ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಬೇಕು.ಪರೀಕ್ಷಾ ಸಲಕರಣೆಗಳ ಭಾಗವಾಗಿ ನೈಜ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸಲು ಮತ್ತು ಅರ್ಹತಾ ಕಾರ್ಯಕ್ರಮದ ಭಾಗವಾಗಿ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಮತ್ತು ವಾಲ್ವ್ ವಿನ್ಯಾಸದ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಪರೀಕ್ಷೆಯನ್ನು ಕೈಗೊಳ್ಳಲು ಪರಿಗಣಿಸಬೇಕು.ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್‌ಗಳನ್ನು ಅರ್ಹತೆ ಪಡೆಯಲು,ಮುಖ್ಯ ಗಮನವು ಈ ಹಿಂದೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸವಾಲುಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ರಮಾಣದ ಪ್ರತಿಬಂಧಕವಾಗಿದೆ,ಆದರೆ ಉತ್ತಮ ಪ್ರಮಾಣದ ಪ್ರತಿಬಂಧವು ಸ್ಥಿರ ಮತ್ತು ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಅನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ.ಸ್ಥಿರ ಮತ್ತು ನಿರಂತರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಇಲ್ಲದೆ ಪ್ರಮಾಣದ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವು ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ.ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವಾಲ್ವ್ ಗನ್ಕ್ ಎಡ್ ಆಗಿದ್ದರೆ ಮತ್ತು ದ್ರವದ ಸ್ಟ್ರೀಮ್ಗೆ ಯಾವುದೇ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಇಲ್ಲದಿದ್ದರೆ,ಬಾವಿ ಮತ್ತು ಸುರಕ್ಷತಾ ಕವಾಟಗಳನ್ನು ಪ್ರಮಾಣದಿಂದ ರಕ್ಷಿಸಲಾಗಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ ಸುರಕ್ಷಿತ ಉತ್ಪಾದನೆಯು ಅಪಾಯಕ್ಕೆ ಒಳಗಾಗಬಹುದು.ಅರ್ಹತಾ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸವಾಲುಗಳ ಜೊತೆಗೆ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್‌ಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಮತ್ತು ಅರ್ಹವಾದ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ನೋಡಿಕೊಳ್ಳಬೇಕು.
ಹೊಸ ವಿಧಾನವು ಹಲವಾರು ಶಿಸ್ತುಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಶಿಸ್ತುಗಳ ನಡುವಿನ ಸಹಕಾರ ಮತ್ತು ಸಂಬಂಧಿತ ಜವಾಬ್ದಾರಿಗಳನ್ನು ಸ್ಪಷ್ಟಪಡಿಸಬೇಕು.ಈ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ನಲ್ಲಿ ಟಾಪ್ಸೈಡ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ವ್ಯವಸ್ಥೆ,ಸಮುದ್ರದ ಟೆಂಪ್ಲೇಟ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಬಾವಿ ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಪೂರ್ಣಗೊಳಿಸುವಿಕೆಗಳು ಒಳಗೊಂಡಿವೆ.ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳಿಗೆ ದೃಢವಾದ ಪರಿಹಾರಗಳನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸುವುದರ ಮೇಲೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸುವ ಬಹು-ಶಿಸ್ತಿನ ಜಾಲಗಳು ಪ್ರಮುಖವಾಗಿವೆ ಮತ್ತು ಬಹುಶಃ ಯಶಸ್ಸಿನ ಮಾರ್ಗವಾಗಿದೆ.ವಿವಿಧ ವಿಭಾಗಗಳ ನಡುವಿನ ಸಂವಹನವು ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗಿದೆ;ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಅನ್ವಯಿಸಲಾದ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ರಸಾಯನಶಾಸ್ತ್ರಜ್ಞರು ಮತ್ತು ಬಾವಿಯಲ್ಲಿ ಬಳಸುವ ಉಪಕರಣಗಳ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಬಾವಿ ಎಂಜಿನಿಯರ್‌ಗಳ ನಡುವಿನ ನಿಕಟ ಸಂವಹನವು ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ.ಇಡೀ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸಂಕೀರ್ಣತೆಯನ್ನು ಅರ್ಥಮಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು ವಿಭಿನ್ನ ವಿಭಾಗಗಳ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಅರ್ಥಮಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು ಮತ್ತು ಪರಸ್ಪರ ಕಲಿಯಲು ಅವಶ್ಯಕ.
ತೀರ್ಮಾನ
● DHS Vor ಅನ್ನು ರಕ್ಷಿಸಲು ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ನ ನಿರಂತರ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದು ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳು ಬಾವಿಯನ್ನು ಪ್ರಮಾಣಕ್ಕಾಗಿ ರಕ್ಷಿಸಲು ಒಂದು ಸೊಗಸಾದ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ
● ಗುರುತಿಸಲಾದ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಪರಿಹರಿಸಲು,ಕೆಳಗಿನ ಶಿಫಾರಸುಗಳು:
● ಒಂದು ಮೀಸಲಾದ DHCI ಅರ್ಹತಾ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವನ್ನು ನಿರ್ವಹಿಸಬೇಕು.
● ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟಗಳಿಗೆ ಅರ್ಹತಾ ವಿಧಾನ
● ರಾಸಾಯನಿಕ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಣೆಗಾಗಿ ಪರೀಕ್ಷೆ ಮತ್ತು ಅರ್ಹತೆಯ ವಿಧಾನಗಳು
● ವಿಧಾನ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ
● ಸಂಬಂಧಿತ ವಸ್ತು ಪರೀಕ್ಷೆ
● ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ವಿವಿಧ ವಿಭಾಗಗಳ ನಡುವಿನ ಸಂವಹನವು ಯಶಸ್ಸಿಗೆ ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗಿರುವ ಬಹು-ಶಿಸ್ತಿನ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆ.
ಸ್ವೀಕೃತಿಗಳು
ಲೇಖಕರು ಈ ಕೃತಿಯನ್ನು ಪ್ರಕಟಿಸಲು ಅನುಮತಿ ನೀಡಿದ್ದಕ್ಕಾಗಿ ಸ್ಟಾಟೊಯಿಲ್ ಎಎಸ್ ಎ ಮತ್ತು ಚಿತ್ರ.2 ರಲ್ಲಿ ಚಿತ್ರವನ್ನು ಬಳಸಲು ಅನುಮತಿಸಿದ್ದಕ್ಕಾಗಿ ಬೇಕರ್ ಹ್ಯೂಸ್ ಮತ್ತು ಸ್ಕ್ಲಂಬರ್ಗರ್ ಅವರಿಗೆ ಧನ್ಯವಾದಗಳನ್ನು ಅರ್ಪಿಸಲು ಬಯಸುತ್ತಾರೆ.
ನಾಮಕರಣ
(Ba/Sr)SO4=ಬೇರಿಯಂ/ಸ್ಟ್ರಾಂಷಿಯಂ ಸಲ್ಫೇಟ್
CaCO3=ಕ್ಯಾಲ್ಸಿಯಂ ಕಾರ್ಬೋನೇಟ್
DHCI=ಡೌನ್ಹೋಲ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್
DHSV=ಡೌನ್ಹೋಲ್ ಸುರಕ್ಷತಾ ಕವಾಟ
ಉದಾ=ಉದಾಹರಣೆಗೆ
GOR=ಗ್ಯಾಸಾಯಿಲ್ ಅನುಪಾತ
HSE=ಆರೋಗ್ಯ ಸುರಕ್ಷತೆ ಪರಿಸರ
HPHT=ಅಧಿಕ ಒತ್ತಡದ ಅಧಿಕ ತಾಪಮಾನ
ID=ಒಳಗಿನ ವ್ಯಾಸ
ಅಂದರೆ = ಅದು
ಕಿಮೀ = ಕಿಲೋಮೀಟರ್
ಮಿಮೀ = ಮಿಲಿಮೀಟರ್
MEG=ಮೊನೊ ಎಥಿಲೀನ್ ಗ್ಲೈಕಾಲ್
mMD=ಮೀಟರ್ ಅಳತೆಯ ಆಳ
OD=ಹೊರಗಿನ ವ್ಯಾಸ
SI=ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್
mTV D=ಮೀಟರ್ ಒಟ್ಟು ಲಂಬ ಆಳ
ಯು-ಟ್ಯೂಬ್ = ಯು ಆಕಾರದ ಟ್ಯೂಬ್
VPD=ಆವಿ ಒತ್ತಡದ ಖಿನ್ನತೆ
ಚಿತ್ರ 1. ವಿಲಕ್ಷಣ ಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿ ಸಬ್‌ಸೀ ಮತ್ತು ಡೌನ್ಹೋಲ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಸಿಸ್ಟಮ್‌ಗಳ ಅವಲೋಕನ.ಸ್ಟ್ರೀಮ್ DHSV ಮತ್ತು ಸಂಬಂಧಿತ ನಿರೀಕ್ಷಿತ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಕೆಮಿಕಲ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಸ್ಕೆಚ್.DHS V=ಡೌನ್ಹೋಲ್ ಸುರಕ್ಷತಾ ಕವಾಟ, PWV=ಪ್ರೊಸೆಸ್ ವಿಂಗ್ ವಾಲ್ವ್ ಮತ್ತು PM V=ಪ್ರೊಸೆಸ್ ಮಾಸ್ಟರ್ ವಾಲ್ವ್.
ಚಿತ್ರ 2. ಮ್ಯಾಂಡ್ರೆಲ್ ಮತ್ತು ವಾಲ್ವ್‌ನೊಂದಿಗೆ ವಿಲಕ್ಷಣವಾದ ಡೌನ್ಹೋಲ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಸಿಸ್ಟಮ್‌ನ ಸ್ಕೆಚ್.ಸಿಸ್ಟಮ್ ಅನ್ನು ಮೇಲ್ಮೈ ಮ್ಯಾನಿಫೋಲ್ಡ್‌ಗೆ ಕೊಂಡಿಯಾಗಿರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಅದರ ಮೂಲಕ ಒದಗಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಕೊಳವೆಯ ವಾರ್ಷಿಕ ಭಾಗದಲ್ಲಿ ಟ್ಯೂಬ್ ಹ್ಯಾಂಗರ್‌ಗೆ ಸಂಪರ್ಕಪಡಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ರಾಸಾಯನಿಕ ರಕ್ಷಣೆ ನೀಡುವ ಉದ್ದೇಶದಿಂದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಮ್ಯಾಂಡ್ರೆಲ್ ಅನ್ನು ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕವಾಗಿ ಬಾವಿಯಲ್ಲಿ ಆಳವಾಗಿ ಇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಚಿತ್ರ 3. ವಿಶಿಷ್ಟವಾದ ಬಾವಿ ತಡೆಗೋಡೆ ಸ್ಕೀಮ್ಯಾಟಿಕ್,ಅಲ್ಲಿ ನೀಲಿ ಬಣ್ಣವು ಪ್ರಾಥಮಿಕ ಬಾವಿ ತಡೆ ಹೊದಿಕೆಯನ್ನು ಪ್ರತಿನಿಧಿಸುತ್ತದೆ;ಈ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳು.ಕೆಂಪು ಬಣ್ಣವು ದ್ವಿತೀಯ ತಡೆ ಹೊದಿಕೆಯನ್ನು ಪ್ರತಿನಿಧಿಸುತ್ತದೆ;ಕವಚ.ಎಡಭಾಗದಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಅನ್ನು ಸೂಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಕೆಂಪು (ದ್ವಿತೀಯ ತಡೆಗೋಡೆ) ಎಂದು ಗುರುತಿಸಲಾದ ಪ್ರದೇಶದಲ್ಲಿನ ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳಿಗೆ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಪಾಯಿಂಟ್ನೊಂದಿಗೆ ಕಪ್ಪು ರೇಖೆ.
ಚಿತ್ರ 4. 3/8" ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್ನ ಮೇಲಿನ ವಿಭಾಗದಲ್ಲಿ ಕಂಡುಬರುವ ಪಿಟ್ಡ್ ರಂಧ್ರ.ಪ್ರದೇಶವನ್ನು ವಿಲಕ್ಷಣ ಬಾವಿ ತಡೆಗೋಡೆಯ ರೇಖಾಚಿತ್ರದಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ, ಇದನ್ನು ಕಿತ್ತಳೆ ದೀರ್ಘವೃತ್ತದಿಂದ ಗುರುತಿಸಲಾಗಿದೆ.
ಚಿತ್ರ 5. 7” 3% ಕ್ರೋಮ್ ಟ್ಯೂಬ್‌ಗಳ ಮೇಲೆ ತೀವ್ರವಾದ ತುಕ್ಕು ದಾಳಿ.ಪಿಟ್ ಮಾಡಿದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಲೈನ್‌ನಿಂದ ಉತ್ಪಾದನಾ ಕೊಳವೆಗಳ ಮೇಲೆ ಸ್ಕೇಲ್ ಇನ್ಹಿಬಿಟರ್ ಸಿಂಪಡಿಸಿದ ನಂತರ ತುಕ್ಕು ದಾಳಿಯನ್ನು ಚಿತ್ರವು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.
ಚಿತ್ರ 6. ರಾಸಾಯನಿಕ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಕವಾಟದಲ್ಲಿ ಕಂಡುಬರುವ ಅವಶೇಷಗಳು.ಈ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ ಶಿಲಾಖಂಡರಾಶಿಗಳ ಲೋಹದ ಸಿಪ್ಪೆಗಳು ಬಹುಶಃ ಕೆಲವು ಬಿಳಿಯ ಶಿಲಾಖಂಡರಾಶಿಗಳ ಜೊತೆಗೆ ಅನುಸ್ಥಾಪನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ.ಬಿಳಿ ಶಿಲಾಖಂಡರಾಶಿಗಳ ಪರೀಕ್ಷೆಯು ರಾಸಾಯನಿಕ ಚುಚ್ಚುಮದ್ದಿನಂತೆಯೇ ರಸಾಯನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಎಂದು ಸಾಬೀತಾಯಿತು
ಪೋಸ್ಟ್ ಸಮಯ: ಏಪ್ರಿಲ್-27-2022